LEAP、電源電圧0.37Vで動く2MビットSRAMを試作、ビット動作確認

NEDO(新エネルギー・噞\術総合開発機構)とLEAP(低電圧デバイス\術研|組合)は、0.37Vという低い電圧で動作するSOIのMOSFETを開発(図1)、2MビットのSRAMを試作し、その動作を確認した。この成果を6月11日からB都で開されている2013 IEEE Symposium on VLSI Technology and Circuits(通称VLSI Symposium)で発表した。 [→きを読む]
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NEDO(新エネルギー・噞\術総合開発機構)とLEAP(低電圧デバイス\術研|組合)は、0.37Vという低い電圧で動作するSOIのMOSFETを開発(図1)、2MビットのSRAMを試作し、その動作を確認した。この成果を6月11日からB都で開されている2013 IEEE Symposium on VLSI Technology and Circuits(通称VLSI Symposium)で発表した。 [→きを読む]
Bluetooth Smart Readyがアンドロイドフォンにも搭載されることがまった。Bluetooth Smartは、低消J電版であるBluetooth Low Energy(BLE)の発t版として擇泙譴拭今、Bluetooth Smart、Bluetooth Smart Readyという格がR`されている。この新格Bluetooth Smartとは何か。BLEとの違いを含めて、これらをD理してみる。 [→きを読む]
ファウンドリのUMCは28nmプロセスの量を出荷しており、その量模拡jを進めている中、20nmプロセスをスキップして、14nmのFINFETプロセス立ち屬欧冒世い鮃覆辰討い襪海箸らかにした(図1)。 [→きを読む]
EUV(Extreme Ultra Violet)リソグラフィ\術の現Xがらかになった。Intelは2013Qに14nmのトライゲートFETプロセスを導入するが、次の10nmノードでは193iとEUVのミックスになるだろうと予Rする。これはEIDEC Symposium 2013でらかにしたもの。 [→きを読む]
富士通セミコンダクターは、画輝宜臉のグラフィックスシステムLSIを開発、O動Zのティア1メーカー向けに8月からサンプル出荷していく。4妓、合4のカメラからの映(動画)を合成し表する機Δ魴eつ。クルマの屬線からだけではなく、360度周囲からクルマを見たような映気鮑遒蟒个(図1)。 [→きを読む]
|極の低消J電動作を`指して、ルネサスエレクトロニクスがエネルギーハーベスティングデバイスを開発、ユーザーに提案するため、ESEC(組込みシステム開発\術t)に出tした(図1)。このデバイスは、200mVを直接1.8Vに圧するDC-DCコンバータと、4μWで動作するマイクロコントローラ(マイコン)だ。 [→きを読む]
プログラミングのスキルがなくても、オリジナルな図柄をいたメーターなどのグラフィックスを表する]晶パネルをO分で開発できるようになる。菱電機は、タッチパネルとそのコントローラ、]晶モジュール、グラフィックスボードに設開発ツールをワンセットにしたソリューション(図1)の提供を始める。 [→きを読む]
FPGAj}のAltera(アルテラ)は、14nm時代に向けたのロードマップ(図1)とポートフォリオをらかにした。14nmではIntelをファウンドリとして使う旨も表しており、そのT図をD材した。 [→きを読む]
かつて、バリアブルコンデンサと}ばれる、ラジオチューナの可変キャパシタがあった。空気を絶縁としてい、向かい合わせた金關の片Cだけを機械的にv転させることで金關が向かい合うC積を変え容量を変えるというもの。MEMSを使って金關間の{`を変えて可変キャパシタを実現する企業が現れた。リードスイッチ企業もMEMSで小型にした。 [→きを読む]
ボストンでの爆発Pの畤佑鯀椶垢里飽厠を発ァした監カメラ。監カメラx場では、360度あるいは180度の魚眼レンズカメラが求められている(図1)。1で広いJ囲をカバーできるからだ。その魚眼広角カメラに向けた専のチップをジオセミコンダクタ社が開発中。このほどGlobalpress主のE-Summit2013でそのチップのk陲らかにした。 [→きを読む]
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