Semiconductor Portal

プロセス

» キーワード » 設&] » プロセス

Intel、ファウンドリのビジネスt開への覚悟をす、14AのIPだけじゃない

Intel、ファウンドリのビジネスt開への覚悟をす、14AのIPだけじゃない

Intelがファウンドリをビジネスとして確立するためのパートナーとのエコシステムを、新CEOであるLip-Bu Tanが、このほど開したIntel Foundry Direct Connectでらかにした。同はIntelを、\術、カスタマフォーカスだけではなく企業文化も変えることを訴えており、ファウンドリとしてのパートナーとして、EDAトップ3社に加え、PDF Solutionsを紹介した。 [→きを読む]

2024Qのシリコンウェーハ出荷C積はiQ比で少、そのT味は何か

2024Qのシリコンウェーハ出荷C積はiQ比で少、そのT味は何か

2024Qにおけるシリコン半導ウェーハの出荷C積がiQ比2.7%の122億6600万平汽ぅ鵐舛世辰燭SEMIが発表した。そのQのウェーハ売幢Yは同6.5%の115億ドルだった。出荷C積の少よりも出荷売幢Yの少の気jきいということは、在U調Dがゆっくりで、ファブのn働率を屬欧襪茲Δ塀j量攵`のデバイス要が弱かったことをT味する。 [→きを読む]

JEITAの電子情報噞x場は8%成長の3.99兆ドル

JEITAの電子情報噞x場は8%成長の3.99兆ドル

JEITA(電子情報\術噞協会)が12月19日に発表した世cの電子機_とソフトウエアやソリューションを合わせた電子情報噞のx場は、2025QにiQ比8%\の3兆9909億ドルになる。TSMCのy本工場がn働し始めているが、九Δ又々半導プロセスに使うや材料の企業が々集まっている。ラピダスにEUVが入り始め、関連企業もEUVに△┐討い襦キオクシアは18日、東B証wD引所の東証プライムx場に崗譴靴拭 [→きを読む]

旟研がEUVリソを導入、c間Wを任

旟研がEUVリソを導入、c間Wを任

噞\術総合研|所がEUVリソグラフィを導入して5nm以下のプロセス開発をмqする、と22日の日本経済新聞が報じた。これはIntelとの共同でD△垢訐菽屡焼の研|開発拠点に導入する。1000億を投じるという。k機日本にファウンドリ工場を新設するとしていた湾のPSMCがSBIとの提携解消について理yを述べている。また、QualcommとArmとの係争が化している。 [→きを読む]

メーカーとサプライヤの関係が逆転するTSMCとNvidiaの新\術

メーカーとサプライヤの関係が逆転するTSMCとNvidiaの新\術

メーカーとサプライヤとの関係がひっくり返る例がNvidiaとTSMCとの間に見られる。これまではファブレス半導としてのNvidiaが設したチップをTSMCが]するという関係だった。今度はTSMCがメーカーとなり、プロセス中によく使うリソグラフィ工でより確なマスクを作するためのQに、サプライヤであるNvidiaのGPUをWするのだ。 [→きを読む]

AIがけん引する半導、集積化\術、先端パッケージングのIEDM 2024

AIがけん引する半導、集積化\術、先端パッケージングのIEDM 2024

IEDM(International Electron Devices Meeting)2024の内容がらかになった。70周Qを迎える今Qは、「日の半導\術を形作る」というテーマで、基調講演、k般講演だけではなく、フォーカスセッションやチュートリアル、ショートコースなど270Pの講演が予定されている。例Q通り櫂汽鵐侫薀鵐轡好海離劵襯肇鵐曠謄襪12月7日から開される(図1)。 [→きを読む]

ペロブスカイト陵枦澱咾亮唾化を`指すO動成膜を旟研が試作

ペロブスカイト陵枦澱咾亮唾化を`指すO動成膜を旟研が試作

噞\術総合研|所は、ペロブスカイト構]の陵枦澱咾亮唾化に向け、O動作システムを試作した。ペロブスカイト陵枦澱咾蓮∧儡晃率がシリコン以屬旅發じ率をす試作はHいが、バラつきがjきいと共に、経時変化がjきく劣化しやすい、jC積がMしいなどの問が兩僂漾少しでも}作業による作ではなくO動機によってバラツキをらす狙いでを開発した(図1)。 [→きを読む]

High-NAのEUVリソグラフィの次となるか、Hyper-NAのEUV開発画

High-NAのEUVリソグラフィの次となるか、Hyper-NAのEUV開発画

リソグラフィ最j}ASMLはIntelのオレゴン工場にHigh-NA(Numerical Aperture:開口数)のEUVを初出荷したが、L外複数のメディアによると、早くも次のHyper-NAのEUV開発が始まりそうだ。来のEUVのNAは0.33でHigh-NAは0.55、そしてこれから開発するHyper-NAは0.75となり、これまで以屬鉾細加工が可Δ砲覆襦 [→きを読む]

MEMSの進tから見えてくる、これからのMEMSx場の広がり

MEMSの進tから見えてくる、これからのMEMSx場の広がり

MEMS(Micro Electro-Mechanical Systems)の国際会議「The 15th MEMS Engineer Forum」が先月、東Bで開された。MEMSデバイスは、加]度センサ・圧センサからマイクロフォン、RFフィルタ、音Sトランスデューサなどさまざまな応に使われてきた。欧勢は、O動Zx場やスマホx場などでMEMSデバイスを発tさせた。次のMEMSデバイスは何か。 [→きを読む]

TSMC、1.6nm相当のプロセス\術A16をo開

TSMC、1.6nm相当のプロセス\術A16をo開

TSMCは2024Technology SymposiumをカリフォルニアΕ汽鵐織ララで開、2nmの次の1.6nmに相当する\術を発表した。先週、2024Q1四半期(1Q)におけるQ社のQが発表された。Intel、SK hynix、ルネサスエレクトロニクス、ソシオネクストなどがQを発表。收AI向けの学{ソフトを軽くするという動きもあり、AIプロセッサを集積するSoCへの期待が膨らむ。 [→きを読む]

1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | 9 | 10 次のページ »

麼嫋岌幃学庁医 天胆xxxx恂鞭來天胆88| 狭通篇撞互賠壓瀟待| 爺爺荷2018| 亜v壓瀉盞儿杰| a雫壓濆杰簡啼| 涙鷹繁曇娼瞳匯曝屈| 冉巖AV涙鷹AV崙捲総窃廨曝| 襖謹勸潤丗壓濆杰諌伺| 臼訳醍纎壓瀲伺屈曝| 勸雑芙曝篇撞壓濆杰| 忽恢天胆冉巖娼瞳及匯匈消消扉| 嶄猟爺銘恷仟井www壓濆杰| 襖謹勸潤丗梓彫| 兜晦繁曇富絃嶄猟忖鳥| www秉曲啼| 撹繁H強只娼瞳匯曝屈曝| 冉巖忽恢撹繁互賠壓濆杰| 胆溺仔18參和鋤峭鉱心| 忽恢娼僉怜鋒紐窟狼双999| yellow窒継利嫋| 晩昆胆溺來伏試篇撞| 窒継忽恢a尖胎頭| 胆胆溺互賠谷頭篇撞窒継鉱心| 忽恢怜匚爾涙鷹av谷頭| 消消秉狭恢濘款瞳| 忽恢娼瞳涙鷹廨曝| 97消消繁繁階当忽恢娼瞳| 晩云消消消消消嶄猟忖鳥| 冉巖娼瞳涙鷹消消| 娼瞳怜匚匯曝屈曝眉曝壓濆杰| 忽恢眉雫壓濆杰簡嗤)| 互咳谷頭涙孳飢互賠窒継| 忽恢晩恢匯曝屈曝眉曝膨曝励曝| javaparser晩云互賠| 娼瞳忽恢廨曝91壓app| 撹繁窒継篇撞利峽| 消消娼瞳涙鷹嶄猟忖鳥| 槻才溺匯軟蹇蹇蹇30蛍嶝| 忽恢壓瀛啼吃忝栽| 晩昆壓瀋禧議| 寄穢組望綻綻瞳匯曝屈曝|