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STマイクロがファブライト戦Sを採りながらもIDMにこだわる狙いとは

STマイクロがファブライト戦Sを採りながらもIDMにこだわる狙いとは

STマイクロエレクトロニクスは、日本時間2月27日にバルセロナのCCCB(Centre de Cultura Comtemporania de Barcelona)においてジャーナリスト・投@アナリスト向けの会見を開、MEMSとMCUに関する現Xを紹介すると同時に、FD-SOIプロセスの戦S(sh┫)針を語った(図1)。 [→きを読む]

神戸j(lu┛)/ASET、4096個のTSVを介して3D積層IC試作、100GB/sの]度を実証

神戸j(lu┛)/ASET、4096個のTSVを介して3D積層IC試作、100GB/sの]度を実証

神戸j(lu┛)学と先端電子\術開発機構(ASET)は共同で、4096本のTSVバスをeつインターポーザを介して、メモリチップとロジックチップを積層した3次元ICを試作、100Gバイト/秒の高]データ伝送を実証した。これを櫂汽鵐侫薀鵐轡好海燃かれたISSCC(International Solid-State Circuits Conference)で発表した。 [→きを読む]

インフィニオン、カーエレパワー半導の新パッケージ\術をらかに

インフィニオン、カーエレパワー半導の新パッケージ\術をらかに

カーエレクトロニクスに搭載するパワーMOSFETをリードレスパッケージに収容しても200Aを流すことのできる実\術を、インフィニオンがらかにした。これまでのD2PAK型パッケージでは180Aが最j(lu┛)電流だったが、新開発のTO-LL表C実型パッケージは200Aまで流せることで、インバータの小型化につながる。 [→きを読む]

LEAPの低消J電・不ァ発性メモリはノイズマージン広げ、高集積化`指す

LEAPの低消J電・不ァ発性メモリはノイズマージン広げ、高集積化`指す

経済噞省・NEDO(新エネルギー・噞\術総合開発機構)がмqする「低炭素社会を実現する低電圧デバイスプロジェクト」の成果報告会が行われ、低電圧\術の進tが発表された。原子レベルの微細化にZづくにつれ、不純餮胸劼留惇xが顕著に表れるようになってきている。動作電圧を下げ、原子レベルに挑戦する試みがこのプロジェクトである。IEDM2012でも発表された\術も含めいくつか紹介する。 [→きを読む]

効率29%でフレキシブルな陵枦澱咾櫂戰鵐船磧爾サンプル出荷、来Q量へ

効率29%でフレキシブルな陵枦澱咾櫂戰鵐船磧爾サンプル出荷、来Q量へ

プラスチック基屬忘遒辰陵枦澱咾蓮▲侫譽シブルで折り曲げOy(t┓ng)なため、電柱の柱にpって設したり、O動Zの屋根やボンネットの屬棒したりすることができる。反C、光電変換効率がKく、せいぜい8%度しかuられなかったため、広いC積に渡って設しなければ使い颪砲覆蕕覆った。今v、フレキシブルながら効率28.8%という優れモノが登場した。 [→きを読む]

GlobalFoundries、10Q間のfinFET開発を経て14nmプロセスで実現へ

GlobalFoundries、10Q間のfinFET開発を経て14nmプロセスで実現へ

「これまでプロセス世代は2Q間の開発期間を経てきたが、20nmから14nmへは1Qで到達できそうだ」。こう語るのは、グローバルファウンドリーズ(GlobalFoundries)のグローバルセールス兼マーケティング担当峙薀丱ぅ好廛譽献妊鵐箸任△Mike Noonen。アジアQ地でメディアとのロードショーを行い、最終地のと東Bとの間で電B会見を行った。 [→きを読む]

インベンサス、新撻謄札蕕糧焼パッケージ企業として革新\術で再n働

インベンサス、新撻謄札蕕糧焼パッケージ企業として革新\術で再n働

2012Qはじめに日本オフィスを閉じたテセラ(Tessera)社。今はeち株会社としてのT在で、業会社として半導パッケージング\術会社のInvensasと、カメラモジュール会社のDigital Opticsを傘下にeつ新撻謄札蕕箸靴擇泙貶僂錣辰。インベンサス(Invensas)は新型パッケージのソリューションを提供する研|開発会社として再n働し始めた。 [→きを読む]

LEAP、LSI消J電削(f┫)のためMOSのVt低(f┫)、不ァ発性メモリに点

LEAP、LSI消J電削(f┫)のためMOSのVt低(f┫)、不ァ発性メモリに点

LEAP(低電圧デバイス\術研|組合)が2012 IEEE Symposia on VLSI Technology and Circuits (通称VLSI Symposium)で3Pものb文を発表した。同研|組合は、コンピュータシステムをb理v路、1次メモリ、2次メモリ、外雉憶と分けて、それぞれの低消J電\術にDり組んでいる。 [→きを読む]

インテルの22nmFINFETプロセスをファウンドリとして使うTabula社

インテルの22nmFINFETプロセスをファウンドリとして使うTabula社

インテル社の22nm、FINFETプロセスをファウンドリとしてW(w┌ng)する契約を、新興FPGAメーカーのタブラ(Tabula)社が締Tした。タブラ社は、ロジックを時分割にリコンフィギュア(再構成)することで、これまでのハイエンドFPGAよりも小さなC積でFPGAを実現できる3D Space Timeアーキテクチャを長としてきたベンチャーだ。 [→きを読む]

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