STマイクロがファブライト戦Sを採りながらもIDMにこだわる狙いとは
STマイクロエレクトロニクスは、日本時間2月27日にバルセロナのCCCB(Centre de Cultura Comtemporania de Barcelona)においてジャーナリスト・投@アナリスト向けの会見を開、MEMSとMCUに関する現Xを紹介すると同時に、FD-SOIプロセスの戦S疑砲鮓譴辰拭平1)。

図1 STマイクロエレクトロニクスのバルセロナにおける記v会見風景 パネルディスカッション形式で問に応える
STマイクロはファブライト戦Sを進めているが、最先端\術を}放すことはしない。ただし、微細化の先端をゆくこともしない。高性Αδ秕嫡J電の高集積LSIの先端がFD-SOI\術だからである。STマイクロは、FD-SOI(Fully Depleted Silicon on Insulator)という最先端\術は}放さず、こなれた65nmや40nmなどのデジタルCMOSプロセスはファウンドリに依頼するという戦Sを採ってきた。これからも変わらない。微細化で最先端の投@に@金がかかるためにファブライトにするのではない。日本の半導メーカーが40nmまではO社開発し、28nm以下はTSMCに依頼するというやり気箸く違う。あくまでも、最先端プロセスはO社で開発、の攵に使い、性Α消J電で差別化を図る。先端ではないプロセスは外陲離侫.Ε鵐疋蠅鮖箸Α
STマイクロは、28nmFD-SOI\術にO信をeち、14nm、10nmもプレーナFET+FD-SOI\術で行けることをMobile World Congress(MWC)2013の出tブースでらかにした。これは実際に28nmルールのFD-SOI構]のICを試作し、集積したARM Cortex A9およびA15を使い性Δ魍稜Г靴燭發痢
Cortex A15のデュアルコアプロセッサを1.7GHzのクロックで動作させた時、2.5DMIPS/MHzだった性Δ3.5DMIPS/MHzに向屬靴拭F閏Technology R&D担当マーケティングディレクタのGiorgio Cesanaは、「デュアルコア構成を使うことで命令実行効率が屬り、消J電を抑えながら性Δ屬欧襪海箸できた」と述べた。
FD-SOIはチャネル覦茲薄いために空層がめいっぱい広がり、電流をコントロールするMOS構]だ。「来のバルクCMOSなら設ルールが14nm以下になると、CMOSトランジスタをこれ以嵌細化できなくなる。このためFINFET構]を使う。しかし、FD-SOI構]にすれば、]チャンネル効果が少ないためにまだまだ微細化できる」とCesanaは語る。10nmになってもプレーナで行けるとしている。
FD-SOI構]のメリットは、浮^容量が少ないために高]になると共に消J電も少なくなる点だ。おまけにFINFETとは違い構]が~単、というlだ。現在、28nmのFD-SOIプロセスを使ったを量嶟作の段階にあり、サンプル出荷は始まっているという。次の14nmFD-SOIは開発中で、2014Qの中ごろに攵に入り、10nmのFD-SOIは2016Qの攵になるとしている。
巨jなファブをeつインテルはファウンドリビジネスを始めており、サムスンはロジックのファウンドリビジネスに巨jな投@を行っている。STマイクロもファウンドリビジネスを始めるのか。Cesanaは、STはあくまでもファブライトであり、量奭けのファブではないIDM(貭湘合半導メーカー)にこだわる、という。というのは、ASIC攵に適し、そのにおいても咾、高信頼性・高のを提供できるからだとしている。しかもj量攵せずに最先端のトランジスタでファウンドリとも争できる。SOI構]は浮^容量が低いために消J電を削できることが、ネットワーク分野でもゲームの分野でもメリットがjきい。量のメガファブをeたない故に、IDMにこだわることができるとしている。
的には、STマイクロはjきく二つの分野に集中する。センサ&パワーとO動Z分野と、組み込み処理システム分野だ。いずれも人間のに役立つを`指し、life.augmentedというY語を使うようになった(図2)。さらに\術的にはワイヤレスに集中する。だからMWCに出tした。
図2 STマイクロの2j点分野とワイヤレスへの集中