TSMCが28nmプロセスをゲートラストで構築、20nm以下の見通しも語る

TSMCが28nmプロセスにおいてゲートラストをIすることを発表した。7月2日開するTSMC2010 Technology Symposium Japanに先だって、1日にメディア向けにその要を発表したが、メディアに瓦靴謄┘鵐弌璽瓦鬚け、本日午をeって発表となった。 [→きを読む]
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TSMCが28nmプロセスにおいてゲートラストをIすることを発表した。7月2日開するTSMC2010 Technology Symposium Japanに先だって、1日にメディア向けにその要を発表したが、メディアに瓦靴謄┘鵐弌璽瓦鬚け、本日午をeって発表となった。 [→きを読む]
シリアルメモリーといえば、I/O端子数をらし、いアクセスのW颯瓮皀蝓爾箸いΠをeつ読vはHいだろう。ところが、シリアルメモリー擬阿帯域幅を屬欧覆ら消J電を下げられる}法として、新たなモデルチェンジを行っている。このほどSPMTコンソシアムの会長が来日し、その新}法について語った。 [→きを読む]
プラチックエレクトロニクス作の量にはR2R(ロール-ツー-ロール)擬阿向いているが、ロールから出てきたシートがほんのわずかでもずれるとシートの先端はjきくずれてしまう。にTFTの1画素分の小さなパターンずれは致命的だ。このためR2Rマシンの中に絶えず細かい位U御が求められる。k機▲ぅ鵐ジェット擬阿郎すぐという応には出番がある。 [→きを読む]
インテルがIMEC、ベルギーの5j学と共同で、現在最先端のスーパーコンピュータの1000倍という性Δ魴eつコンピュータシステムを共同開発する。このための施設として、ベルギーのIMEC内にエクササイエンス研|所(Flanders ExaScience Lab)を設立した。エクサ(Exa)は10の18乗という単位で、現在最高性Δ任△襪撻FLOPS(floating operations per second)の1000倍に当たる。 [→きを読む]
オランダのTNO(応科学研|機構)とベルギーのIMECが共同で設立した研|開発所であるホルストセンター(Holst Centre)が設立5周Qを迎えた。オープンイノベーションを掲げ、アイデアと咾澆魘~しグローバルな研|所として、オランダBとベルギーのフランダースBが@金を提供した。フィリップス社の跡地に設立したハイテクキャンパス内でこの研|所は何を行っているか、お伝えする。 [→きを読む]
半導\術とプリントv路基\術の境`が見えなくなってきた。これまでは、プリントv路\術は半導\術の後を{いかけてきた。v路線幅/線間隔(L/S)で表される幅は、半導\術では30nmくらいまで微細化が進んできたのに瓦靴董▲廛螢鵐v路\術は最も微細なパターンでさえ10/10μmだ。しかし、テクノロジーでは逆転現も見える。 [→きを読む]
セミコンポータルが5月に実施した「SPIフォーラム 次世代パワーグリッド構[ スマートグリッドの真実」において、スマートグリッドへの理解だけではなく、その問を解すべきデジタルグリッド構[を東Bj学の阿靂也教bが提案していたが、その詳細が次にらかになってきた。同時に庁のj嶋洋kは低コストのシステムを提案した。 [→きを読む]
送電(パワーグリッド)では、発電された電を、消Jを渇望する地域へ送り、ネットワークにおける電を平化するlだが、消Jする電よりも発電する電の気jきければ余った電を捨てざるをuない。捨てないためには蓄電池が要る。蓄電池で電の平化を達成、電失を半させた例を川崎_工がSPIフォーラム「次世代パワーグリッド構[」の中で発表した。 [→きを読む]
櫂哀蹇璽丱襯侫.Ε鵐疋蝓璽此GlobalFoundries)社の来に向けた戦Sが次に確になってきた。昨Qの4月にAMDからスピンオフしてファウンドリ企業として独立、その後シンガポールのチャータードセミコンダクターもA収して、プロセスのポートフォリオを広げた。2010Q1月に統合が完了して5カ月になろうとしている。 [→きを読む]
人とクルマのテクノロジーt2010では、電池やモーター、キャパシタ、SiCパワー半導、電池関連のIT\術など、電気O動Z関連の新しい・\術のtが消えた。裏返せば、電気O動Zは思いのほか]に進んでおり、O動ZメーカーがくBをしなくなったということは本格的な商化がZづいてきた証拠でもある。 [→きを読む]
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