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NXP、ON SemiがA収を完了、Tを語る

NXP、ON SemiがA収を完了、Tを語る

日本法人をeつ、二つの外@U半導メーカーが仕Xけた企業A収が完了し、それぞれNXP SemiconductorsとON Semiconductorの日本法人がA収後の新擺覿疑砲砲弔い童譴辰拭ただし、共に細陲砲弔い討龍┻弔まだ終わっていないため、これから始まる。 [→きを読む]

IMEC、「日本はIoTの進tにLかせない国」

IMEC、「日本はIoTの進tにLかせない国」

「これからのIoTは日本にとって_要な分野。しかし、IoTに要なテクノロジーはsれた\術だけではない」。こう語るのは、ベルギーの研|開発機関IMECのCEOであるLuc Van den Hove(図1)。IoTシステムは、sれた\術の端から、演Q不可Lなゲートウェイを経てクラウド、ビッグデータ解析、サービス提供というl富な\術で構成されている。 [→きを読む]

Industry 4.0で先行する半導攵システムの会議AEC/APC Sympo 2015

Industry 4.0で先行する半導攵システムの会議AEC/APC Sympo 2015

半導]・プロセスのO動・最適化を通じて、よりインテリジェントで高効率な攵システムの構築を議bするAEC(Advanced Equipment Control)/APC(Advanced Process Control)Symposium Asia 2015が11月11日、東Bh代田区の学術総合センターで開される。半導]分野は、]条Pを予めするフィードフォワード的な考えをeち、Industry 4.0を先行してきた。 [→きを読む]

実性最優先のフレキシブルエレクトロニクスを擇濬个Holst Centre

実性最優先のフレキシブルエレクトロニクスを擇濬个Holst Centre

実的ではない~機トランジスタでLSIを作るのではなく、Si CMOSLSIを使ったフレキシブルエレクトロニクスが実的になってきた。研|開発センターでさえ、実化を念頭にく。ベルギーのIMECとオランダの研|機関TNOが共同で設立した研|所Holst Centre (図1)がフレキシブルデバイスの実化を進めている。 [→きを読む]

新材料を]時間で開発できるコンビナトリアル}法でjきなi進

新材料を]時間で開発できるコンビナトリアル}法でjきなi進

コンビナトリアルと}ばれる}法を使って新材料を開発するビジネスが発になってきた。H元U材料の薄膜を形成するのに組成を連的に変え、最適な組成を見出すのに使う(図1)。2007QにSEMICON WestでtしたIntermolecular社の材料組成やプロセス条Pを変える擬阿箸楼磴ぁ薄膜の組成を連的に変えられる。真空やスパッタリングを使う。英国のIlika(イリカと発音)社、日本のコメット社を紹介する。 [→きを読む]

]チャンネル効果のないIGZOWのMOSトランジスタ

]チャンネル効果のないIGZOWのMOSトランジスタ

シャープの]晶ディスプレイのQ画素にスイッチングトランジスタとして形成されているIGZO(In、Ga、Znの┣顱鉾焼を改良し、リジッドな完T晶ではなく、アモーファスでもない「柔らかい」T晶を半導エネルギー研|所が開発、半導LSIに応するため、湾ファウンドリのUMCと提携した。 [→きを読む]

ASMLのEUV量咁、いよいよ始動へ

ASMLのEUV量咁、いよいよ始動へ

オランダASML社のEUV(Extreme Ultra-Violet)がいよいよ量栔階に入った。盜颪里△觚楜劼15のEUVを納入すると発表した。加えて、2015Q1四半期Q報告において、EUVの]期的な画について発表している。ASMLのQ報告書からEUV画を読みDる。 [→きを読む]

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