IoTシステムの開発会社が始動
IoTシステム����の開発会社として、デバイス&システム・プラットフォーム開発センター（DSPC）が7月��に設立されたことが発表された。終息したSTARCとSIRIJの後を�pけて設立された����会社（参考�@料1）が、��業会社という形��に変わったもの。��業内容は、IoT関連のサービス、ライセンス、コンサルティング、少量�攵�など。 [→��きを読む]
プロセス
半導��設��投�@は2016�Q後半から2017�Qに�\�咾�
SEMIのIndustry Research and Statistics Groupは、最新の設��投�@�X況を表すWorld Fab Reportをまとめた。これによると、設��投�@�Yは、今�Qの後半（2016�Q2H）には�i半（1H）と比べ18%�\えると予�[する（図1）。 [→��きを読む]
ギガフォトン、EUVの出��250W達成
小松��作所の100%子会社であるギガフォトンは、EUVリソグラフィの実��化レベルに�Zい出��250WのEUV光源を開発したと7月6日発表した。EUVは今やオランダのASMLしか�}�Xけておらず、同社が微細化�\術を先行している。先週は久しぶりにリソグラフィ����の発表があり、キヤノンが半導��向けのリソグラフィ����を2機、発表した。 [→��きを読む]
東��、NANDフラッシュの微細化にナノインプリント
久しぶりに半導��の��るいニュースが先週�~け巡った。東��が、微細化�\術としてナノインプリント�\術を使ってNANDフラッシュを微細化するというニュースだ。6月3日の日本経済新聞が報じたもの。NANDフラッシュは、クラウドストレージ向けにこれから��要性が�\し、IoTシステムの�k環を形成する。クラウドビジネスがIoTと�k緒になりAI（人工���Α砲砲茲襯如璽寝鮴呂砲���きていく。 [→��きを読む]
VLSI Symposium、日本�\術の�T在感
6月13〜17日ハワイで開��される2016 Symposium on VLSI Technology and Circuits（通称、VLSI Symposium）の採�I�b文が��まった。VLSIのデバイス・プロセスを扱うTechnologyでは、��投�M�P数214の内、採�Iされた�b文は85�P、�v路�\術を扱うCircuitsでは、375�Pの投�Mに�瓦靴�97�Pの採�Iであった。�v路関係の内容はIoT�k色である。 [→��きを読む]
2期�`を迎えた東���jCIESセンター
東���j学のキャンパス内に2012�Qに設立された国際集積エレクトロニクス研�|開発センター（CIES）が昨�Qに��き、今�Qも�\術報告会であるCIES Technology Forumを開��した。今�Qは��2�vとなる。CIESは、文�隹奮愍覆任呂覆�、�c間企業からの出�@を�pけて構成された研�|所であり、�c間企業が求めるテーマを中心に研�|されている。現在センター長である遠藤哲�r��（図1）にこれまでの研�|所やコンソーシアムとの違い、成果などについて聞いた。 [→��きを読む]
�咾�! 国内���]����メーカー
![�咾�! 国内���]����メーカー](/assets_c/900px/160311-intel.png "�咾�! 国内���]����メーカー")
Intelが半導�����]����や材料のサプライヤーに�瓦靴突燭┐襦�2016�QのSCQI（Supplier Continuous Quality Improvement）賞の�p賞企業が発表された。数�h社から��ばれた�p賞企業8社の内、7社が日本メーカーであった。 [→��きを読む]
MRAMを軸に成長の機会を探る、2nd CIES Tech Forum
「東日本�j震�uからの復興とは、元に戻すことだけにとどまらない。次への成長を期待できる仕組みを作ることだ」。このような思いを胸に、東���j学は「2nd CIES Technology Forum」3月17〜18日、仙��で開��する。東���j学が進めているスピントロニクス�W��のMRAMとその応��を中心とするテーマで、2日間に渡る。 [→��きを読む]
NY��SUNYとGlobalFoundries、EUVを共同開発、5億ドル投�@で拠点設��
�盜颪砲�ける先端半導��開発の拠点の�kつ、SUNY Polytechnic InstituteとGlobalFoundriesは、EUVリソグラフィの量�僝に向けて5�Q間で5億ドルのプログラムを推進すると共同発表した。このプログラムではIBMや東�Bエレクトロンなど半導��メーカー、����・材料メーカーのネットワークを最�j限に�W��、開発センターを設立する。 [→��きを読む]
ASMLのEUV露光機、2015�Qの�攵掚は平均1000��/日以��
オランダをベースとするASMLの2015�Qの業績と共に、EUV����の最新情報が��らかになった。これによると、2015�Qに��4世代のEUV����NXE:3350Bは2��出荷された。最初の実��機NXE:3300Bは半導��メーカーの工場で、1000��/日以�屬��攵掚を�uており、NXE:3350Bは1250��/日以�屬��攵掚を�uている。 [→��きを読む]
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