日経によると、2017�Q度中に東��はナノインプリント�v路形成�\術を使ったNANDフラッシュメモリの�攵�に乗り出すとしている。極めて微細なハンコのパターンと同じ�\術を�W��するナノインプリント�\術は、これまで�j日本印刷、キヤノンと�k緒に組んで実��化を�`指してきた。��来のリソグラフィ�\術よりも低いコストで�攵�できる可��性がある。

これまでの�S長193nmのArFレーザーだと、10nm��の微細なパターンでは1�vのリソグラフィ工��でパターニングを2�v、3�vと繰り返さなければならなくなっている。1�vの露光では、これほど細いパターンを形成できないため、例えば10nmの線幅を加工する場合、まず20nmのパターンを切り、それを半分ずらしてもう�k度露光する、あるいはセルフアラインメントで半分��度に加工する、などの複雑な工��を経なければならない。こうなるとリソグラフィコストが�峺�する。EUVという�S長13.5nmのX線リソグラフィ�\術ではまだX線の出��が不�科�で、露光に時間がかかってしまう。����も高価だ。

これに�瓦靴謄淵離ぅ鵐廛螢鵐箸蓮▲魯鵐海里茲Δ縫譽献好箸魏湛�していく�lだから、�}間はかからない。�攵掚は�屬�りコストが下がるようになる。しかし、�cき所はゴミなどのパーティクルが��くと、使えなくなる点だ。10nm��では�`に見えないパーティクルが��きやすい。クリーン度の��なる向�屬��Lかせない。

東��のナノインプリント�\術の導入を�pけて、�j日本印刷も埼玉県にある�嵎＜K工場に40億��を投じ、ナノインプリントのテンプレート(ハンコ)�攵���の設�△鯑各�する、と6日の日経�噞新聞が報じた。まず15nmのテンプレートを�攵�するという。キヤノンは、ナノインプリント�\術の���]����を担い、スループット（1時間当たりのウェーハ処理��数）を2018�Qまでに��来の4倍に引き�屬欧襪汎�経は報じている。

東��が投�@を���Tした背景には、NANDフラッシュ��要が�咾泙辰討�たことがある。パソコンそのものの��要は落ちているが、NANDフラッシュを使うモバイルパソコンの��要はまだ旺�rで、サーバー��要が�jきい。��にクラウド時代には、IoT端��からデータを吸い�屬押�解析し、保�Tする��要がある。データ量は膨�jになり、��要は旺�rだ。さらに中国ではスマートフォンが�j容量化へ転換している、という記��を5月31日の日経�噞が伝えている。

5月31日の日経にはDellのCEOであるMichael Dell��のインタビューが掲載され、その中でDell��は、パソコンやサーバーからクラウドへITトレンドが�々圓靴討い襪海箸鮖惻~し、データストレージの�j�}EMCを�A収したことや、仮�[化�\術のVMwareやデータ解析のPivotalを�A収した背景にはクラウドの中心�\術であることだと述べている。これまでのITが企業のIT�靆膰�けだったものが、IoTによって���]業や金融、医��、小売業にも入り込めるようになりつつある。Dellはこういった�噞に向け、デジタル��業変革を�任后�クラウドではストレージは�_要な�\術の�kつになる。

IoTやクラウドでのデータ解析にはAIの����が�R�`されている。日立��作所は、IoTプラットフォーム「ルマーダ」を�~使して社会インフラの効率化�мqや����の��加価値向�屬北鯲�てると6月2日の日刊工業が伝えた。このルマーダには、ビッグデータ解析、AI、セキュリティで構成され5月から運��を開始したという。日立は�盜驂x場でスマートグリッド��業にAIを����、オフィスビルやマンションの電��仕様や工場の�n働�X況、�W�tなどのビッグデータを、AIを使って解析、電����要の��確な見通しを予�Rするとしている。

また、住友電気工業は�噞�\術総合研�|所と共同で、サイバーセキュリティ�\術を開発すすると6日の日経�噞が報じた。4月に�U定された�旟研連携研�|室�U度を����し、�旟研が�eつ暗�ｶ\術などを����し、住友電工の����に��かす予定だとしている。この�U度は3�Q以�屬力�携の�M��と1�Qあたり1億��の負担が条�Pだという。