Industry 4.0で先行する半導���攵�システムの会議AEC/APC Sympo 2015
半導�����]����・プロセスの�O動����・最適化を通じて、よりインテリジェントで高効率な�攵�システムの構築を議�bするAEC（Advanced Equipment Control）/APC（Advanced Process Control）Symposium Asia 2015が11月11日、東�B�h代田区の学術総合センターで開��される。半導�����]分野は、���]条�Pを予め����するフ��ードフォワード的な考えを�eち、Industry 4.0を先行してきた。
図1 �i�v日本で開��されたAEC/APC Symposium のひとコマ
この会議では、半導�����]を科学的に捉え、�攵掚と歩�里泙蠅��屬欧襪燭瓩縫如璽燭鬚Δ泙��W(w┌ng)��することを議�bする。その�k例をチュートリアルセッションで��湾の国立成功�j(lu┛)学のFan-Tien Cheng教�bは、TFT�]晶工場でVM（仮�[���R�\術）�\術を使った例について語る。プロセス処理している�]晶基��ごとにオンラインの����をモニターすることはプロセスの�W定化を歩�里泙蠍��屬柾L(f┘ng)かせない。基��ごとに実���Rすることは時間がかかりコストアップの要因になる。このため、VMを導入する。���]����から集めたプロセスデータと少々の実���Rに基づいて、�]晶基��の����を推�Rする�\術だ。
もう1�Pのチュートリアル講演は、アズビルのアドバンスオートメーションカンパニーの�l田英輔��による、「センサ、コントローラの新しい��(sh┫)向性/EES（����エンジニアリングシステム）向け����パラメータの創出」と��して、センサとコントローラの関係性から�~効なデータを創出する同社の�Dり組みを紹介する。
��雑化したプロセスパラメータや�uられるデータをビッグデータとして扱うほどの膨�j(lu┛)になってくるため、歩�里泙蠅��屬欧��攵掚を�屬欧襪海箸��Mしくなってくる。センサ端��を�W(w┌ng)��して、����の�X況を����するパラメータを創出し、�攵掚を向�屬気擦襪海箸呂泙気�Industry 4.0である。データ量が�Hいため、社内のクラウドなどに�屬押≪~効なデータを求める。
こういった�~効なデータを�W(w┌ng)��して����にフ��ードバック、フ��ードフォワードによって�攵掚を�屬欧訃}法が、これまでの半導���i工��だけではなく、後工��や�~機ELパネル���]、MEMS���]などにも適��する例がAEC/APC Sympo 2015で登場する。こういった�攵掚向�屬両}法は、日本だけではなく�盜�、欧�Δ覆匹砲盥�がっているようだ、とプログラム委�^長の柿沼英����は語る。
基調講演では、日本アイ・ビー・エム東�B基礎研�|所の折井靖光��が「コグニティブデバイス実現に向けた実���\術の新潮流」と��して、��ノイマン型アーキテクチャを�eつデバイスの実���\術を議�bする。これからは、AEC/APC�}法の後工��への適��へと進むに違いない。
