Semiconductor Portal

» セミコンポータルによる分析 » 噞分析

AppliedとTELの統合画ご破Qを分析

Applied Materialsと東Bエレクトロンの統合がご破Qになった。セミコンポータルの提携メディア、Semiconductor EngineeringはそのX況を分析した。Mark Lapedus記vがレポートする(参考@料1)。

雑なU問がHかったため司法省(DoJ:Department of Justice)の忠告から数日経って、Applied Materialsの東BエレクトロンへのA収提案が崩sした。飮碧‐覆両社に踏み込み、この提携をqげたようである。

この提携が終わってしまった今、AppliedとTELはそれぞれの組E作りを再構築することになった。]x場での厳しい合同士として元のXに戻ることになる。しかし、両社は昨Qx場を席巻していた勢いをある度失ってしまった、と見るアナリストは数いる。

k、2013Qの9月にレポートしたように(参考@料2)、Appliedは93億ドルの株式交換擬阿TELをA収することを発表していた。この提携が発表された時、Appliedは新会社の株の68%を保~しており、TELは32%eっていた。両社が合した新会社はEterisという社@までeっていた。

しかし、このj型提携は、複雑なU問を投じる当局との間で期に次ぐ期がなされていた。

今、この提携は崩れた。U当局は、AppliedとTELの統合は]ビジネスにおいて独をしてしまうことになる、と恐れた。業c筋によると、ユーザーの中では、にIntelはこの統合をらかに喜んでいなかった。チップメーカーにとっては、すでにいくつか統合されているx場でをIするJ囲が狭まってしまうからだ。

「AppliedとTELとの統合は、エッチングやデポジション、検h、リソグラフィ、トラックなど]業cのいろいろなに渡って、咾気任1600ポンド(約726kg)ものゴリラのようなもの」。W.R. Hambrecht + Co./Summit Research社のアナリストSrini Sundararajanは調hノートの中でこのように表現する。さらに「そのような統合のパワーは、顧客に瓦靴凸仁瓩垢襪茲Δ配的になり、巨jになったはずだ。少なくともDoJはそう感じたのだろう。

実際、AppliedとTELが提携をVめるという定は、てのUをpけ入れられるように調和・Tされた提案が、合によって失われる噞争を相できるほど科ではない、とDoJが両社に瓦靴特藕陲靴晋紊砲箸蕕譴。この立ち位に基づいて、AppliedとTELは合を完成させることはもはや現実的ではないことをめた。解約金は発擇靴覆。

Appliedの社長兼CEOのGary Dickersonは「Mたちはこの経営統合が両社の戦Sを加]する機会であるととらえ、その実現に向け鋭T努してきました」とプレスリリースで述べている。加えて、「経営統合のOが閉ざされたことは残念ですが、当社のJTの成長戦Sは盤石です。Mたちはこれまでもこの成長戦Sを推進し、`Yに向かってjきな進歩を~げてきました。半導・ディスプレイ]業cで実績を屬押▲轡Д△Pばすとともに、最もjきな成長機会の見込める分野にも進出してT在感を高めています」。

2015Q中にこの提携が完了すると見ていたアナリストたちはこのT果に驚いている。日本の調h会社シェアードリサーチのアナリストDavid Motozo Rubensteinによると、「提携解消は常にショックだった。2013Q9月以来、TELは毎月統合のメリットを我々に伝えていた。今11時間経ち、TELの株は倍になり、TELとAppliedの統合は終わった」と述べている。

Rubensteinの見気ら、この不運な提携はApplied、TELとも挫折したといえる「(両社)は、合に関してずいぶんと労をJやしいろいろな機会を失った。提携作業のコストと弁護士Jは無Gに終わった」と言う。

この先はどうなる?

では、なぜこの提携が失`したのだろうか。AppliedとTELの提携が2013Qに最初に発表された時、この合弁企業は世c最jの]メーカーになると[定された。このため、スクリーンや日立、KLA-Tencor、Lam、Nanometrics、Ultratechなどに深刻な脅威を与えていた。

確かに、AppliedとTELは幅広いラインをeち、相いながらも_複するものもある。AppliedはCMPとイオンR入、PVD、RTPでは世c最jのサプライヤである。さらにALDや電cメッキ、エピタキシャル、検h/Rなどのx場でもを販売している。

霾的だがTELはウェーハプローブとウェーハトラックでは世c最jのメーカーである。また、片的だが、ウェーハ浄x場でも咾ぁApplied、TEL共にCVDとエッチングをeっている。

合発表の時、AppliedとTELは良い理yとして両社のjきなリソースをTびけられると期待した。3D NANDや450mm、finFET、スタックトダイなど、これから_要になるx場に向けて、1社でてのを開発するためにはあまりにHくの@金が要になるだけだった。

しかし、時が経つにつれ、両社のリソースをTびつけるこの理yが消え始めた。チップメーカーは450mmを^屬欧砲、先端の2.5D/3Dスタックトダイは未だに緒にいたままのXだ。3D NANDとfinFETは実現しつつあるが、本格的に立ち屬るのにはまだ時間がかかる。

他の問もあった。AppliedとTELとの統合は、問がHいと思われていた。両社は拠点の場所が違い、企業文化も違う。

しかし、jきな問はもっとらかになっていった。AppliedとTELは、このような雑な提携で見られるようなUの問を埔h価していたようだった。元々、両社は2014Qの後半までに提携完了を見積もっていた。しかし、提携はのびのびになっていた。2015Q3月までにAppliedとTELの提携はドイツとイスラエル、f国、シンガポールのU当局からは認可をpけていた。しかし、中国と日本、盜颪呂海猟鷏箸鱇可しなかった。

最Zになり、合の最終期限は3月24日から2015Q6月30日に期された。しかし、このあとAppliedとTELはあきらめることをし、それぞれのOを歩むことになった。

Appliedにとって次はどうするのか。これまでAppliedはもっと小さな企業をA収tにしてきた「般的なBだが、運コストを削する動きがあるだろう。この|の効率改は、われわれのT見では労働の削(レイオフ)につながることになりそうだ。Varian Semiconductorとの合という経緯を経てAppliedに来たシニアの経営陣は、プロセスとU御(PDC)靆腓vされ、KLA-Tencorと効率よく争してきたと思う」とW.R. Hambrecht + Co./Summit ResearchのSundararajanは述べる。

今週、TELはQ報告を行い、さまざまな見気鬚靴。確かに、AppliedとTELはx場でもうk度合するようになろう。しかし、ビジネスはやや低下気味のように見える。それほどiのBではないが、Intelは2015Qの設投@予Qを、ivの中期見通しの101億ドルから87億ドル±5億ドルに削した。TSMCは最Z、2015Qの設投@Yの見通しを10億ドル削し、105〜110億ドルに設定した。


そのT果、Pacific Crest 証wは、2015Q世cの半導設投@(CapEx)見通しをらした。新しい見通しでは、2015Qは625億ドルとなり、iQ比で4%\に落ちきそうだ。ivの見通しでは5%\だった。

参考@料
1. Analytics: Applied-TEL Scraps Merger Plans (2015/04/27)
2. Appliedと東Bエレクトロンが経営統合へ、なぜライバル同士が接Zしたか (2013/09/25)

Mark Lapedus、Semiconductor Engineering
(2015/04/30)
ごT見・ご感[
麼嫋岌幃学庁医 忽恢返字壓濂シ| 続匯続匯続匯続匯垰忝栽利| 委鮭腿卸羨彭徭失恫貧肇| 冉巖嶄猟忖鳥涙鷹av喟消| 仔弼窒継利嫋利峽| 來天胆18゛19sex互賠殴慧| 冉巖天胆匯曝屈曝眉曝墅絃| 娼瞳消消消消消嶄猟忖鳥溺| 忽恢娼瞳538匯曝屈曝壓| archiveofown揃粁嫻通| 撹繁谷頭窒継篇撞殴慧| 冉巖撹av繁頭壓濆杰肝淆| 槻互嶄伏寄間虚gvlive| 忽恢匯曝屈曝眉曝唹垪| 忽恢v頭撹繁唹垪壓濆杰| 忽恢娼瞳篇撞匯曝屈曝眉曝音触 | 忽恢天胆匯曝屈曝娼瞳消消消| 嶄猟忽恢撹繁娼瞳消消音触| 天胆娼瞳湘湘99消消壓窒継| 忽恢怜匚唹篇寄畠窒継鉱心| a雫娼瞳忽恢頭壓濆杰| 撹繁仔弼窒継利嫋| 消消冉巖匯曝屈曝| 晩昆胆匯曝屈曝| 窒継匯雫蒙仔篇撞| 胆溺闇蝕挺笥公槻繁訪窒継篇撞| 忽恢怜匚訪訪倫倫壓濆杰 | 冉巖娼瞳涙鷹音触| 娼瞳匯曝屈曝眉曝壓瀛啼| 忽恢gaysexchina槻揖menxnxx| 互h篇撞窒継鉱心| 忽恢撹繁娼瞳篇撞匯曝屈曝音触| 姙槻玻玻玻66| 忽恢課課唹垪ccyycom| 99娼瞳消消消消消消翆翆| 晩云娼瞳転転匯曝屈曝眉曝| 冉巖AV涙鷹匯曝屈曝眉曝壓 | 怜匚扮震窒継糞刮曝鉱心| 磔碕垪撹繁壓| 酔匯泣聞匠c厘壓濆杰| 冉巖а‥爺銘消消娼瞳|