蠟紹、染瞥攣瀾隴劉彌を廷叫憚擴の灤據に納裁
蠟紹は、染瞥攣瀾隴劉彌など23墑謄を廷叫瓷妄の憚擴灤據に裁えることを3奉31泣に券山した。泣塑沸貉糠使は票泣の圖穿で、泣塑は嘲百恕に答づき紳達など煩禍羹けに啪脫できる癱欄墑の廷叫を瓷妄しており、海攙蠟紹は嘲百恕の臼吾を猖賴した、と鼠じた。勢柜が面柜に灤する瀾隴劉彌の廷叫憚擴を2022鉗10奉7泣に券山しているが、これに納驕するものとみられる。 [ⅹ魯きを粕む]
セミコンポ〖タルによる尸老
2023鉗の染瞥攣が4×20%負廬する面、賈很羹けのみ14%喇墓の徒盧
辦箕弄な稍斗になる2023鉗の染瞥攣輝眷は賈很羹けのみが喇墓しそうだ。このような斧奶しを勢拇漢柴家のSemiconductor Intelligenceが券山した。坤腸の染瞥攣輝眷鏈攣では拇漢柴家によってばらつきはあるものの、鏈てマイナス喇墓と斧ている。妄統は冊娟哼桿と煎い見妥だという。極瓢賈脫染瞥攣だけが23鉗も喇墓する妄統は部か。 [ⅹ魯きを粕む]
泣塑輝眷で卿れた染瞥攣トップはAMD、2疤がルネサス
毖輝眷拇漢柴家のOmdiaは、2022鉗の泣塑染瞥攣輝眷における懼疤10家ランキングを拇漢した。その馮蔡、1疤はAMD、2疤ルネサスエレクトロニクス、3疤Intel、4疤Samsung Electronics、5疤ソニ〖セミコンダクタソリュ〖ションズ、となった。笆布、Micron Technology 、Infineon Technologies、Analog Devices、澎記、Qualcommとなっている。 [ⅹ魯きを粕む]
ゴ〖ドンˇム〖ア會の穢殿は糠箕洛の據魔だろうか
ム〖アの恕摟で銅嘆なゴ〖ドンˇム〖ア會が舜くなられた。94盒だった。ム〖アの恕摟はICに礁姥されるトランジスタ眶は鉗唯2擒で籠裁するという沸貉摟。輝任のIC瀾墑に礁姥されるトランジスタ眶を山した哭を非很した俠矢が1965鉗、IEEE Spectrum伙と勢McGraw-Hill券乖のElectronics伙に券山された。笆丸、ム〖アの恕摟はまるでテクノロジ〖の渴鷗を山す咐駝として蝗われるようになった。 [ⅹ魯きを粕む]
NvidiaがASML、TSMC、Synopsysと寥み、紛換怠リソで2nmノ〖ドを仆撬へ
プロセスノ〖ド2nm笆慣の肌坤洛染瞥攣チップ瀾隴に風かせない、紛換怠リソグラフィ∈Computational Lithography∷のエコシステムをTSMCとNvidia、ASML、Synopsysが肋惟した。3nmノ〖ドの悸チップ懼での呵井潰恕が13nm駱までやってきて、僑墓13.5nmのEUVリソでもOPC∈各奪儡跟蔡輸賴∷の瞥掐が風かせなくなってきた。紛換怠リソはそのための禱窖である。 [ⅹ魯きを粕む]
23鉗の染瞥攣瀾隴劉彌輝眷は漣鉗孺22%負の760帛ドルとSEMIが布數餞賴
海鉗の染瞥攣瀾隴劉彌輝眷は漣鉗孺22%負と、候鉗瑣のセミコンジャパンで徒鱗した16%負よりも布數餞賴の760帛ドルに你布すると券山した。2022鉗は980帛ドルという任卿馳で冊殿呵光を績していた。2023鉗は漣鉗よりも徒鱗笆懼に礙そうだ。 [ⅹ魯きを粕む]
芹俐垛擄遂をどのような答饒にも燒けられるi-SB禱窖を翠緘絡が禍度步へ
プリント答饒だけではなく、テフロンなどの答饒にも泰緬拉の紊い芹俐を妨喇できる禱窖を翠緘絡池が倡券、光件僑潑拉の庭れた攙烯を推白に妨喇できるようになる。翠緘絡のi-SBと鈣ばれる禱窖は、尸灰儡圭亨を脫いる佰鹼亨瘟儡圭禱窖である。緩度腸もすでに緬謄し幌め、悸脫步に羹けたエコシステムの菇蜜面だ。この禱窖を舍第させるためのプラットフォ〖ムを海僵には菇蜜する紛茶で渴めている。 [ⅹ魯きを粕む]
Samsungが20鉗粗で31名邊抨獲、話嫂排怠は8インチのSiCラインに抨獲
Samsungが躥柜柒に海稿20鉗粗で300名ウォン∈腆31名邊∷を抨じ、糠たな染瞥攣欄緩供眷を肋惟すると山湯した。また、泣塑では躥柜との伏捌禍灌であった染瞥攣亨瘟3墑謄の廷叫瓷妄を此下すると沸貉緩度臼が券山した。また、話嫂排怠は閥塑のパワ〖染瞥攣供眷において1000帛邊を抨獲、SiCのための糠棚を氟肋する。Infineonが賈很マイコンでUMCと墓袋防腆した。 [ⅹ魯きを粕む]
木奪のファウンドリトップ10家ランキング、TSMCのシェア58.5%にも
2022鉗媽4煌染袋におけるファウンドリの懼疤10家ビジネス鏈攣では、漣煌染袋孺4.7%負の335.3帛ドルだが、1疤のTSMCは票1%負の199.2帛ドルにとどまった。TSMCはファウンドリ鏈攣ではまずまずの度烙だが、癱見を幌め面柜の度烙が潑に礙い。 [ⅹ魯きを粕む]
Imec、忙煤燎のためのリソとエッチング供鎳の刪擦緘恕を倡券
染瞥攣供眷の忙煤燎步が滇められるようになってきたが、ベルギ〖の甫墊倡券柴家であるimecは、リソグラフィとエッチング供鎳における茨董砷操を年翁弄に刪擦するシミュレ〖ションを券山した。染瞥攣プロセスの茨董刪擦によりCO2猴負への灤忽を慮つことができる。まずはリソとエッチング供鎳でEUVの庭疤拉が績された。 [ⅹ魯きを粕む]
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