160nm径のビアに低B^のカーボンナノチューブをMIRAIが形成

半導MIRAIプロジェクトは直径160nmと微細なビアにカーボンナノチューブ(CNT)を形成することに成功した。450℃のXCVDで形成したビアB^は34Ω、400℃だと63Ωとこれまで最も低いという。 [→きを読む]
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半導MIRAIプロジェクトは直径160nmと微細なビアにカーボンナノチューブ(CNT)を形成することに成功した。450℃のXCVDで形成したビアB^は34Ω、400℃だと63Ωとこれまで最も低いという。 [→きを読む]
65nmロジックプロセス(ハーフピッチでは90nmプロセスに相当するプロセスノードhp90)で100万個のnチャンネル/pチャンネルMOSトランジスタアレイ(両気200万個)を作り、ゲートしきい電圧Vthのばらつきの原因を突きVめた、と半導MIRAIプロジェクトが、12月18日茨城県つくばxで開かれた2007Q半導MIRAIプロジェクト成果報告会で発表した。pチャンネルMOSのばらつきは不純颪陵らぎにより、nチャンネルMOSは不純颪陵らぎと別の要因が加わっているとしている。 [→きを読む]
組み込みシステムの周辺チップであるウェストブリッジと}ぶ周辺LSI「Antioch」をCypress Semiconductor社が昨Q発売したが、このほど携帯機_への組み込みシステムをT識し、Hビット/セルのNANDフラッシュを16チップサポートし、SD/MMICカードのサポートやSDインタフェースなどを啣修靴深辺チップ「Astoria」を開発、サンプル出荷した。 [→きを読む]
Axcelis Technologies社は、加]エネルギーJ囲が500eVから4MeVと広いイオンR入Optima XEをセミコンジャパン2007で発表した。CMOSデバイスの深いウェルやツインウェルの形成に高い加]エネルギーを要とするほか、イメージセンサーのCCDやNORフラッシュメモリーにも使われる。 [→きを読む]
Credence Systems社は、オーディオとビデオv路を搭載したLSI向けのテスターモジュールMultiWaveインスツルメントを化した。このモジュールをテスターのプラットフォームDiamondに組み込むと4つの独立した、オーディオとビデオv路搭載LSIデバイスを同時にテストできる。セミコンジャパン2007で、このモジュールとR定テストプラットフォームをtした。 [→きを読む]
炭素原子がサッカーボールXに構成されているフラーレンC60が、半導プロセスに威を発ァしそうになってきた。菱商、菱化学などが出@するフロンティアカーボン社は、フラーレンを添加した電子ビームレジストがパターンを加工できることを実証した。 [→きを読む]
シリコンMOSトランジスタのチャンネル層表Cに、半導-半導-半導という繰り返し構]から成る格子層を形成し、ゲートリーク電流の低とドレイン電流の\加というメリットをeつ、く新しい構]のトランジスタをMears Technologies社が開発したが、メリットはそれだけではなく、サブスレッショルド電流も1桁Zくることがわかった。 [→きを読む]
ALD(原子層\積)\術の応がj量攵のDRAMから少量攵のロジックへと広がりつつある。Aviza Technology社は、国内j}ロジックメーカーからCelsior FXP様式のALDをpRしたと発表した。セミコンジャパン2007で、その詳細をらかにした。 [→きを読む]
セミコンジャパン2008では2005Q以来のITRS(International Technology Roadmap for Semiconductors)を見直し、最新X況について報告した。来のような微細化のQ次推,鬟蹇璽疋泪奪廚箸靴栃鷙陲垢襪世韻任呂覆、今Qは最Z言われている、More MooreとMore than Mooreを定Iしたことがこれまでとはjきく違う。 [→きを読む]
ギガビットEthernetのチップがネットワーク半導企業から出てきているが、j容量のデータをネットワーク間で転送するためのチップの化が発になっている。このほど10GビットEthernetのチップセットをSolarflare Communications社が、ROC(ルーターオンチップ)と}ぶ1GビットEthernetに要な機Δ鬚曚榲觝椶靴SoCチップをVitesse Semiconductor社が、それぞれ化した。 [→きを読む]
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