2007年5月21日
|x場分析
l・ニッケル水素電池からの々圓砲茲螻判j(lu┛)
j(lu┛)型蓄電デバイスx場は06Q度でiQ比11.7%\の2,632億となり、2012Qには82.3%\の4,799億になることが予[されている。(富士経済調hによる、j(lu┛)型二次電池を搭載する4分野35におけるj(lu┛)型二次電池と雕爐塁x場調h報告書、「エネルギー・j(lu┛)型二次電池・材料の(j┤ng)来t望 2007」) 中でもリチウムイオン電池は、ハイブリッドO動Zへの採拡j(lu┛)が主要因となって、2012Q度には06Q度20倍の1,111億模になることが予[されている。
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2007年5月14日
|x場分析
iQ比30.6%\、ULVAC、TELとく
2006Qのフラットパネルディスプレイ(FPD)]の売峭Top 15がVLSI Research社から発表された。位はiQ3位のアプライドマテリアルズ、2位はiQ同様ULVAC、3位はiQ4位の東Bエレクトロンとなった。4位はニコン(iQ5位)、5位はキヤノン(同位)、6位は日本スクリーン](同7位)、7位は日立ハイテクノロジーズ(同6位)となった。
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2007年5月14日
|x場分析
Foxconn社EMS位M(f┬i)、Asustek社ODMで位に
2006Qの世cの契約型]業x場は2005Qの2,235億ドルから15%\の2,560億ドルとなったことがiSupply社から発表された。岼EMS社間の合により岼10社の売峭盥膽が始めてEMSx場の70%をえ、平均20%の売峭盪\となった。
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2007年5月14日
|x場分析
Nokia、Motorola、Samsungとく
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2007年5月 7日
|噞分析
世cの半導噞の進化は、kつはプロセスの微細化であり、もうkつはウェハサイズの\j(lu┛)である。現在、世cは12 インチ、65nm 時代に突入している中で、中国のIC ]はまだ初期段階に里泙辰討い襦
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2007年5月 7日
|噞分析
2007 Qの中国半導x場Q会で、中国半導噞協会は2006 Q度の中国IC 設企業、ウェハ]メーカー、パッケージングとテスト業vのトップ10 社を発表した。
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2007年5月 1日
|噞分析
グローバルに瓦靴寅れをDる日本企業のプライシング実施
今後半導業cがW(w┌ng)益ある成長の達成のためには、コストの削(f┫)だけでは維eできず、プライシング(価格け)へのDり組みが_要となる。プライシングの菘世ら、世cの半導企業のマネージメントがプライシングにどのような認識をもって戦Sのk環としているか、プライシングにDり組んでいるかについて、アクセンチュアが調hT果を発表した。
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2007年5月 1日
|x場分析
Hynix、サムスン電子に肉、出荷数では位に
2007QのQ1のDRAMx場は、Hynixが`覚しい成長を~げたことがiSupply社調hで発表された。同社の売峭發蓮i期比4.1%\、iQ同期比126%\の21.5億ドルと、位のサムスン電子の、i期比15.9%(f┫)、iQ同期比40%\の25.2億ドルに肉する勢いとなった。金Yベースでのx場シェアは、サムスン電子が26.1%、Hynixが22.2%となった。
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2007年5月 1日
|x場分析
2010Qには23.5億ドル模へ
2010Qの半導IP(Intellectual Property) x場は、半導x場あるいはシリコン・デバイスのコア・プラットフォーム(シリコン・デバイスの中核となる霾)のx場を越える早さで]に成長し、売峭23 .5億ドルに達するとの予Rが、エレクトロニクス噞cのシンクタンクであるジェイスター株式会社から発表された。
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2007年4月23日
|x場分析
櫃1.0
2007Q3月の半導]x場の3ヶ月平均BBレシオは、日本は1.03、は1.00となった。日本の3ヶ月平均BBレシオは、i月の1.31からj(lu┛)きく下Tした。は、12月以来、ほぼ同水で推,靴討い襦
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