Semiconductor Portal

» セミコンポータルによる分析 » 噞分析

中国の8インチライン\加へ

 世cの半導噞の進化は、kつはプロセスの微細化であり、もうkつはウェハサイズの\jである。現在、世cは12 インチ、65nm 時代に突入している中で、中国のIC ]はまだ初期段階に里泙辰討い襦

 2006 Qは半導のターニングポイントであった。それは、DRAM の8 インチウェハ攵のコストパフォーマンスがKくなりラインの閉鎖へと向かったからである。2007 QにはDRAM の8 インチ攵ラインは、他のIC の攵に転されるだろう。華NEC は中国で初めて8 インチウェハ攵妌場を立ち屬押△修谿瞥荳Fまで中国のIC 噞をリードしてきた。現在、中国にはSMIC の12 インチウェハ攵妌場と中国土の8 インチウェハ攵妌場を合わせて、その攵は月間30 万以屬攵模に達している。

中国集積v路攵庀績と予R

 確かに中国は12 インチの90nm プロセス\術を~しているが、世cトップのTSMCに比べるとはるかにれている。ハイエンドのファウンドリー業はYメモリーが中心である。ロジックIC のファウンドリー業では、90nm プロセスの要量が少なく、まだ立ち屬っていないため、ファブレスメーカーからの先端プロセスのj口pRが無い。そのため、新しい12 インチウェハ工場の攵ξ拡jへの牽引vがなく12 インチウェハの攵は停]している。

 12 インチ攵ラインについては、SMIC のBFab4以外に、帷LFab8 に]を導入中であり、漢にある新工場もi倒しして完成する見込みである。また、無錫Hynix とST マイクロが共同出@したメモリー工場は、2007 Qに8 インチが5 万、12 インチが6 万の月間攵ξであり、中国における最j模の最先端IC 工場になる。

 これらの12 インチウェハの新工場は、Oら攵するIC やファブレスからの要をeっているので、新工場n動に問はない。

 しかし、昨Q9月に中国B関係の中国華集団傘下で帷Lに建設された“華国際半導~限o司”の半導工場が遽、半導設△稜柴を中Vしたのは、12 インチウェハのラインをn動させるに科なpRが見込めなかったことが原因のようである。中国オリジナルの最新工場建設と運営は\術Cと要CでMしい。

 中国のIC ]噞では、まだ6 インチと8 インチが主流でW(w┌ng)益が確保できている。このため、現在でも引きき8 インチの攵ラインの工場を\設しているのが現Xである。


セミコンダクタポータルのコンテンツパートナー、アレグロ インフォメーション・インク(以下アレグロ)による、中国のエレクトロニクス・半導・]晶分野のマーケット情報です。アレグロは、同社独Oの調h及び、中国国家統局、CCID、中国電子報、経済参考報、国際金融報などからuたフレッシュな情報をベースに、に中国のIT、エレクトロニクス、半導・]晶関連の情報収集・提供、分析、調hを行っています。今v、提供したのは、同社の月刊レポート「中国レポート:Electronics and Semiconductor China」の2007Q4月(gu┤)からのks粋です。

ごT見・ご感[
麼嫋岌幃学庁医 消消99娼瞳消消消消消玻玻| 裕土富絃塩鋼磯容磯祥爾秤| 天胆晩壓濆杰| 壓濆杰潅盞冓啼客伺| 嶄猟冉巖av頭音触壓濆杰| 晩昆忽恢娼瞳99消消消消消| 冉巖撹a繁頭壓濂賛| 槻繁j涌序溺繁p涙孳飢窒継鉱心| 膨拶唹垪議利峽| 楳楳課圻篇撞壓濆杰| 忽恢牽旋娼瞳匯曝屈曝| 91篇撞及匯匈| 爺爺荷爺爺荷爺爺荷| 眉雫襖謹勸潤丗擦平眉雫 | 忽恢触1触2触眉触壓| 冉巖秉斤斛濆杰| 忽恢胆溺消消娼瞳秉69| a▲匯曝屈曝眉曝涙触涙鷹| 臨表27催崙恬篇撞岷殴| 嶄猟娼瞳臼訳醍纎嶄猟 | 晩云仔弼弌篇撞壓濆杰| 忽恢娼瞳楳課消消消消牽旋99 | 天胆冉巖忽恢撹繁忝栽壓| 冉巖娼瞳怜匚忽恢va消消| 槻繁議爺銘弼裕裕岻弼裕裕| 怜匚窒継牽旋篇撞| 析弗低議傭徨挫罷邦挫謹恬猟互賠| 忽恢忽恢娼瞳繁壓濆杰| 娼瞳及匯忽恢忝栽娼瞳築竸| 忽恢娼瞳怜匚涙鷹av悶刮曝| 97晩晩当垰垰寵晩晩壽| 爺銘利壓炯醫属www| 匯曝屈曝眉曝嶄猟| 蝕伉消消翆翆忝栽嶄猟忖鳥| 嶄猟壓瀉盞冓啼| 闇蝕褒揚訪訪訪篇撞www| 消消消消忽恢娼瞳窒継利嫋| 晩昆壓濆杰潅盞冤衲井篇撞| 冉巖A▲壓瀘淆覯シ澱頭匯潴| 天胆冉巖繁撹利嫋壓濆杰 | 冉巖総窃爾秤廨曝弌傍夕頭|