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Kのエンジニアb点

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Intel のIDM2.0x言:「7nm微細化プロセス開発は順調に進んでいる」は本当か?

Intel のIDM2.0x言:「7nm微細化プロセス開発は順調に進んでいる」は本当か?

Intelの新しいCEOであるPat Gelsingerによる3月24日のウェブキャストは、独立業としてのIntel Foundry Service (IFS)参入のx言が含まれていたため、湾やf国の半導業c関係vを困惑させている。実は、Intelは2010Q代i半に片}間にファウンドリを始めたが成功せず開休業Xだったので、今vは確には「再参入」と}ぶべきだろう。 [→きを読む]

湾恐るべし!「TSMC誘致で日の丸半導噞復権」は幻[ではないか?

湾恐るべし!「TSMC誘致で日の丸半導噞復権」は幻[ではないか?

湾TSMCは、去る2月9日のD締役会で、日本に3DIC材料研|所を同社の100%子会社(@本金は最j186億)として設立することをR認したと発表した。経済噞省が昨Q春から水C下で誘致の交渉をしてきた半導ファブでもなければ、うわさされていた同省との合弁でもなかった。それ以屬両霾鵑枠表されなかったと湾メディアは伝えている。 [→きを読む]

ムーアの法Г鮟焉させず1nm以下めざす本気のimec、した日本勢

ムーアの法Г鮟焉させず1nm以下めざす本気のimec、した日本勢

ベルギーの半導・ナノテク研|機関imec CEO兼プレジデントのLuc Van den hoveは、同社と蘭ASMLが密接に協業して次世代高解掬戰螢愁哀薀侫6\術である高NA EUV(極端外線)リソグラフィ\術を実化することで、ムーアの法Г鮟焉させることなく、微細化を1nm以TもMさせるとx言した(図1)。 これは、11月18日にバーチャルオンラインで開されたimec主の Q次研|紹介イベントimec Technology Forum (ITF) Japan2020の冒頭、同が研|の気鮠匆陲垢覺霙換岷蕕涼罎能劼戮燭發痢 [→きを読む]

キオクシア崗譴筌愁法芝屬砲皹惇xが及んできた盜颪潅翦焼輸出U

キオクシア崗譴筌愁法芝屬砲皹惇xが及んできた盜颪潅翦焼輸出U

キオクシアは、10月6日に予定していた東B証wD引所への崗貍}きを期する、と9月28日発表した。盜饐省の8月17日け通達によりキオクシアが主要顧客のkつであるHuaweiへのNANDフラッシュメモリの輸出をC的にDりやめざるをuなくなったため、業績の先行きが不透になり、同社の株式価値がj幅に下落してしまい、キオクシアが[定していたo募株価が内外の投@家のХeをuられそうにはないのが崗贏期の主因だと業c関係vは見ている。 [→きを読む]

コロナ蛆長期化と歟羇愀元K化で半導噞の今後はますます不透に

コロナ蛆長期化と歟羇愀元K化で半導噞の今後はますます不透に

2020Q8月28日に開されたバーチャルな「SPI マーケットセミナー:世c 半導x場、 2020 Q 後半の予Rを議b」では、OMDIAシニアコンサルティングディレクタの南川とSPI集長の氾跳二が講演された。そこでは、1)新型コロナウイルス蛆長期化と、2)歟羇愀元K化が2020Q後半の半導噞にどんな影xを及ぼすか?が2jテーマだったように思われる。僭越ながらMもこの2テーマについてオンラインでコメントさせていただいた。限られた時間では充分Tを尽くせなかったので、ここでもう少しD理した形でM見をのべさせていただく。 [→きを読む]

5nm EUVプロセス:毬f勢はZ戦、日本勢は喞△粒亜湾勢はk人Mちか

5nm EUVプロセス:毬f勢はZ戦、日本勢は喞△粒亜湾勢はk人Mちか

Samsung ElectronicsのEUVリソグラフィ(EUVL)専ラインが5nm EUVプロセスの歩里泙蠍屬侭Z労している模様で、顧客の5GモバイルSoCの発売に影xを与えるかもしれないとの消息筋情報を、複数のL外メディアが先月報じた(参考@料1)。2019Qにも、Samsungの7nm EUVプロセスの立ち屬欧トラブルでれているという噂が業c内に広まったことがあった。 [→きを読む]

f国企業の国僝を任憩本企業の空化をもたらした舘f輸出管理啣

f国企業の国僝を任憩本企業の空化をもたらした舘f輸出管理啣

W倍相が議長として「Oyでoな易の_要性」を訴えた20カ国地域N会議(j阪 G20サミット)の閉幕を待っていたかのように、経済噞省は、2019Q7月1日に「jfc国向け輸出管理の運の見直しについて」という通達を突発表し、「フッ化水素、レジスト、フッ化ポリイミド」のf国への輸出管理啣修鬲めた。 [→きを読む]

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