イー・シャトル、富士通マイクロ、D2SがEB露光機のスループットを5倍に
電子ビーム露光�\術を�}�Xける富士通マイクロエレクトロニクスとその���]を�个栄蕕�イー・シャトルは、電子ビーム露光向けに設��を最適化するツールベンダーの��D2S社と組み、スループットを現在より5倍以���屬欧討い�プロジェクトを始める。このほど、3社の提携により、2009�Q度からEB露光ASICの�p�Rを開始する。その�iにまず、65nmプロセスによるテストチップを試作し、その�~効性を実証する。
これまで富士通マイクロエレクトロニクスのグループは、EB露光によるASIC設��・���]を進めてきた。光露光といえども65nm以下のデザインルールとなるとマスクセットが設���Jも含めて2~3億��と��常に高価になってきた。EB露光はマスクセットがいらないため、65nm以下のASICのリソグラフィ�\術としてEB露光ビジネスを始めてきた。しかし、EB露光は1�vのウェーハ露光に8~10時間もかかることがあり、スループット向�屬�最優先課��だった。
かつてのEB露光機は可変�D形ビーム（VSB）と�}ばれる�桔，�、どのようなパターンも�Wいていた。これは、電子銃からのビームを矩形にするための��1アパーチャ、パターンを�Wくための��2アパーチャ、を使ってフレキシブルにどのような図形も�Wけた。しかし、LSI�屬��v路パターンすべてを�Wくととてつもない時間がかかってしまう。そこで、SRAMやレジスタなど繰り返し同じようなパターンには最初からキャラクタとしてパターンを、��2アパーチャに作り込んでしまうという�霾��k括露光という�桔，鮖箸辰討い�。これで5倍��度にはスループットは�屬�ったが、これでもまだ不�科�。
今�v、富士通グループが組むD2S社はDFEB（Design for Electron Beam）と�}ぶ�桔，鮖箸�、キャラクタパターンを数�Hく作っておく�桔，任△襦�セルライブラリからできるだけ�Hくのキャラクタを�iもって作っておく。ライブラリとキャラクタとのマッピング作業が��要となる。これは、�b理設��が終わりRTLレベルに落とす�iの�b理合成ツールに、セルライブラリ情報を覚えさせておく。そのようにするとどのような�v路のASICにも使うことができる。EBに最適化したライブラリを�H数���Tすることで、ランダムパターンの図形数を��らせ、�T果的に����のショット数を��らすことができる。これでスループットは現�Xの5倍��度に�屬�る。これで0.5ウェーハ/時までアップする。
今�vの�\術を使えば、65nmチップの開発コストはこれまでより半��できるとしている。
イー・シャトルの代表�D締役社長、土川春穂��によると、2010�Qには露光機の細かい����改良によってスループットをさらに�屬押�10倍��度の1ウェーハ/時に�屬欧討い���画だ。さらにマルチコラムセル、マルチビーム�\術により、2012�Qには2��/時へと�屬欧討い�、2014�Qには5��/時を�`�Yに��いている。
�盜�ASICメーカーのeASIC社は配線ビアだけでカスタマイズするASICを����化しており、富士通マイクロとイー・シャトルのEB露光機を使っている。富士通マイクロエレクトロニクス���_工場の300mmウェーハ��2工場にアドバンテスト��EB露光����F3000を2��設��している。
