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中国のセットトップボックス（STB）�x場

2007年3月 7日｜�業分析

�~線放送�STB�成長 　2006 �Q中国STB の家庭保�~代数は1,000 万�を突破するだろう。2006 �Qの中国のSTB �x場は、�~線デジタルSTB が主流で、販売�数は700 万�で�x場��の約90%以�屬鰒�めている。他にIPSTB は100 万�、地��S�STB は10 万�である。ﾅ星放送�STB は基本的に輸出�に作られているだけである。 [→�きを読む]

カラーレジスト、2012�Qは06�Q比191%の1,680億�に

2007年3月 1日｜�業分析

－光硬化型�`脂応��は2012�Qに1兆4,062億�予�R（��2006�Q比146%）－ 　光硬化型�`脂応��は2012�Qには2006�Q日146%の1兆4,062億��模に成長するとの見通しが発表された。富士経済がこのほど行った、半導��や�]晶・PDP、プリント基�、塗料・コーティング、接�剤、オプトロニクスといった�Z�Qの成長分野における主要��を幅広くカバーしている「光硬化型�`脂」及び「低・高屈折材料」の関連��x場の調�h�T果である。 [→�きを読む]

半導��業に見られる中国の内陸都�xの成長

2007年2月19日｜�業分析

　今日の中国の半導��業は、��B・�W�肇妊襯臣楼�、揚子江デルタ地域、�A江デルタ地域、そして��陬妊襯臣楼茲暴言僂靴織咼献優好譽ぅ▲Ε箸鮹羶瓦箸靴討い�。それが最�Z、あらたな変化が見られだした。��Bや�帷Lのような�j(lu┛)都�xではなく、より内陸の都�x、��Wや成都志向が見られ始めている。 [→�きを読む]

インドの半導��デザイン�x場は2015�Qには450億ドル��模へ

2007年2月19日｜�業分析

　インドの半導��業の始まりは1970�Q代に遡る。インド��B管轄のBharat Electronicsがテストデザインセンターならびに�攵摚�△鱆~した時である。1985�QにはTexas Instrumentsがインドで�H国籍企業として初めてデザインセンターを設立している。 [→�きを読む]

科学�\術の振興および成果の社会への�恩気砲爐韻�U度改革提案

$科学�\術の振興および成果の社会への�恩気砲爐韻�U度改革提案$

2007年1月23日｜�業分析

総合科学�\術会議に提案 　2006�Q12月25日に開�された、総合科学�\術会議において、科学�\術の振興および成果の社会への�恩気砲爐韻�U度改革案が提出された。 [→�きを読む]

ナノテク分野の科学�vがナノテクノロジー・リスク研�|の5 �j(lu┛)課�を発表

2006年12月18日｜�業分析

　Andrew Maynard(ウッドロー･ウィルソン国際センター)やRobert Aitken(英国IOM)、GunterOberdorster(ロチェスター�j(lu┛))、Vicki Colvin(ライス�j(lu┛))など、世�cのナノテク分野の�k流科学�v14�@が、ナノテク・リスク研�|の5 �j(lu┛)課�（Five Grand Challenge）を確認した。 [→�きを読む]

半導��]��・材料企業におけるIP問�

2006年12月18日｜�業分析

半導��のみならず、ナノテク、MEMSへ�S及 半導��]��・材料�業�cにとって、��眈�IP）保護問�は益々�_要な課�となっている。�K烈な国際�争の中で、半導��]��・材料メーカーが先端�\術開発を�M�するには、IP保護が��椶任△�。 [→�きを読む]

�盜饐噞�cから�歃j(lu┛)学への研�|開発�мq、30�Q来の拡�j(lu┛)�向にブレーキ

2006年11月13日｜�業分析

��櫺奮愃眞帖�National Science Foundation = NSF）は、1972�Qから2001�Qまで約30�Q来拡�j(lu┛)�向にあった�業�cから�盜餝�|への研�|開発�J�мq関係はブレーキがかかったとの見��(sh┫)を発表した��惓@金はどこへ行ったのか？�少する�業�cの�j(lu┛)学研�|開発�мq（Where Has the Money Gone? Declining Industrial Support of Academic R&D）』という報告書に、下�T�向にある�業�cの学�|機関に�瓦垢�мqの分析やその主要な考察�T果が記載されている。 [→�きを読む]

携帯電�B機�業の�(j┤ng)来のあり��(sh┫)に関する課�と��(sh┫)策

2006年11月 6日｜�業分析

経�省、パブリックコメント募集 　IT 分野におけるめざましい�\術革新により、デジタル放送（ワンセグ）�p信やIC カード�官�覆彪搬單�B機の高機�Σ宗�轡機璽咼�官��覆玳k��(sh┫)で、国内外の携帯電�B機�x場における�争は��修靴討い�。　経済�業省では、8月に「携帯電�B機�業の�(j┤ng)来のあり��(sh┫)に関する�~識�v懇�i会」を開�し、携帯電�B機メーカーの開発における連携や��格の共通化、新しいサービスの実現に向けた�Dり組みなど日本の携帯電�B機�業の�(j┤ng)来についての��(sh┫)向性を議�bするとともに、課�解�に�㌫廚��(sh┫)策について検討した。 [→�きを読む]

�歃j(lu┛)統�襪�07�Q度ナノテク関連予�Q要求、12.8億ドル

2006年10月30日｜�業分析

06�Q推定�Y比、1.9%� 　�盜颯屮奪轡綵j(lu┛)統�襪�2007 �Q度NNI（The National Nanotechnology Initiative 国家ナノテクノロジー・イニシアティブ）の予�Q要求�Yは12 億7,800 万ドルで、�i�Q度要求�Yの10 億5,400 万ドルよりは2 億2,400 万ドルの�\�Yとなったが、2006 �Q度推定�Y、13 億300 万ドルとの比では1.9%の�少となる。 [→�きを読む]

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