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セミコンポータルによる分析

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中国の電子攵数はiQを?j┼n)vり、ICも8月に14%\を記{

中国の電子攵数はiQを?j┼n)vり、ICも8月に14%\を記{

中国のエレクトロニクスの攵が順調にPびている。プラズマテレビの1〜7月の攵数はiQ同期比で2.15倍となり、輸出のPびはj(lu┛)きくマイナスであるから中国国内での消JがPびていることになる。]晶テレビも6、7月はiQをj(lu┛)きく?j┼n)vり、パソコンは8月の攵が7月を?j┼n)vり、(c┬)去最高の1661万を記{した。 [→きを読む]

25周Qを迎えたIMEC、ずっと肩屬りでやってきたその成長の謎を探る

25周Qを迎えたIMEC、ずっと肩屬りでやってきたその成長の謎を探る

IMECが創立25周Qを迎えた。これまでの売り屬欧呂困辰肩屬りでやってきた。2009Q7月に新たにCEOに任したリュック・バンデンホッフ(hu━)にインタビューすると、最初からグローバルにやってきたわけではないという。何が成功した要因なのか、インタビューを通してその謎にってみた。 [→きを読む]

SiCのMOSFET、GaNのHEMTをサンケン、ローム、富士通研がCEATECに出t

SiCのMOSFET、GaNのHEMTをサンケン、ローム、富士通研がCEATECに出t

サンケン電気、ローム、富士通研|所などがGaNやSiCなどの高a(b┳)動作可Δ淵僖錙FETをCEATECでt(j┤)した。に、サンケン電気はGaNのノーマリオフ型2次元電子ガスFET(いわゆるHEMT構])とSiCのMOSFETの両(sh┫)をt(j┤)した。ロームもSiCのMOSFETをt(j┤)し、来よりもいっそう低いオンB^を実現するためトレンチ構]を使った。 [→きを読む]

ASML、次世代]浸リソHolistic Lithography の貌をらかに

ASML、次世代]浸リソHolistic Lithography の貌をらかに

世cトップのリソグラフィメーカーであるオランダのASMLがいよいよ狭まってくるプロセスウィンドウを最適化し、歩里泙蠅魍諒櫃任る統合的なリソグラフィ\術(Holistic Lithographyと}ぶ)についてSEMICON Westで発表していたが、このほど日本の9メディアにもo開した。これは45nm、38nm、32nm、22nmと微細化が進むにつれ狭くなるプロセスウィンドウに棺茲景里泙蠅魍諒櫃垢襪燭瓩料躪腑螢愁哀薀侫6\術である。 [→きを読む]

半導]のB/Bレシオが2ヵ月連1.0をえた

半導]のB/Bレシオが2ヵ月連1.0をえた

日本x場における半導]のpRにもるさが見えてきた。SEAJ(日本半導]協会)が発表した2009Q8月における]のB/Bレシオは7月の1.47にき、1.21と2ヵ月連で1.0をえた。B/Bレシオは3ヵ月の‘以振僂派修后販売Yに瓦垢pRYの比で、1.0をえるとpRYのほうがHいというT味で(j┤ng)来はるいことを(j┤)す。 [→きを読む]

家庭内の直流電源、新エネと3DディスプレイがR`を浴びた今QのCEATEC

家庭内の直流電源、新エネと3DディスプレイがR`を浴びた今QのCEATEC

CEATEC 2009が開幕した。今Qは出tv数590社・団、そのうちL外からは22カ国、263社・団。2123小間。昨Qは出t社が804社・団、3121小間であったので、昨Qの2/3Zい模に縮小している。今QはNECやパイオニアも出tしておらず、またk旦出tをめても、直iでDり消しをした企業もあり、いまだHくの日本企業は構]改革屬妊灰好蛤鑿(f┫)の圧にあえいでいる。 [→きを読む]

洋電機、フルHD仕様のネットワークカメラを開発、ソリューション販売へ

洋電機、フルHD仕様のネットワークカメラを開発、ソリューション販売へ

監カメラx場にもフルHD(1920×1080の高@細)仕様がやってくる時代になってきた。洋電機は4|、6機|のフルHDカメラを発表した。これまではVGAやせいぜいSD(Y解掬戞縫譽戰襪硫掬戮靴覆った。フルHD仕様のネットワーク監カメラの狙いは単なる防瓩畤傭気掘△箸いχ`的だけではない。 [→きを読む]

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