しかし、45nmの先の32nm、22nm、16nmなどへとさらに微細化が進むにつれ、これまでの�\術の��長で実現できるのか、まだ誰にもわからない。そのためにEUVといった軟X線（�S長2nm��度）を�W��するリソグラフィ�\術や、繰り返しパターンを�W��して2�v露光でパターンのピッチを実��的に半分にするダブルパターニング�\術などが�t��として挙がっている。

�\術成果報告会では、マスクの設��・�W画法と検�h�桔，砲弔い討糧�表であった。このプロジェクトでは国家（NEDO）からも予�Qがついているものの、微細化まっしぐらのこのテーマに関しては最新疑問の�mを�噞�cからよく聞く。彼らは表立って�jきな�mで言わないが、相変わらず国のプロジェクトはハード志向だね、いつまでも微細化の時代じゃないのにこのようなテーマを��ぶんだね、マスク�\術の開発は国家プロジェクトでやるテーマなのかしらね、などなどと本音を��らす。

3月13日にセミコンポータル主��の半導��エグゼクティブフォーラムを開��した（http://www.589173.com/archive/editorial/industry/spi1.htmlないし、http://www.589173.com/archive/editorial/industry/spi4.html）ときに、今は半導���噞は変革期に来ており微細化しなくても�科�にビジネスができる例を紹介してきた。もちろん、今まで通り微細化��須のビジネスもある。しかし、半導���\術を捉えなおす変革期に来ており、聞きに来られた会場の�機垢離▲鵐院璽箸砲發修量mが反映されている。

国家が半導���噞にどう係るか、これまでの���\金��策で良いのか、��争��をつけるために��要なことを国家がどう反映させるべきか、国家プロジェクトにも考え�気鬚海譴泙任箸脇韻犬任呂い韻覆な儚彜�に来たのではないだろうか。最�Z、英国の半導���噞を�D材してきて���Bのあり�気覆匹���集で紹介してきたが、それは�kつの解であり、��争��をつけて英国の半導���噞がこれから��成長するための�戯�である。

もちろん、日本のやり�気榔儿颪鮨��瑤垢譴个茲い箸いΔ錣韻任呂覆ぁ�ではこの先どうやって日本独�Oの戦�Sを立てればよいのだろうか。�噞�cには、日本は戦�Sを立てられないとか、戦�Sを立てるのが日本は下�}だとか、言う人がいる。しかし、�Mはそうは思わない。日本人は��して���Lの劣った�c��ではない。賢い�c��だ。ただ、戦�Sの立て�気��瑤蕕覆い世韻世隼廚Α�戦�Sを立て、きっちりと実行できる仕組みを作ることを�a�{していけばよい。

半導���噞の変革期に国家がどう係り、何をすべきか、をしっかりと議�bして日本独�Oの国家戦�Sと10�Q後の絵を�Wけばよい。戦�Sを立てて実行するというゴールを実現するためには�c間の���Lが�Lかせない。これをどう����するかがカギとなる。そのためには、日本の半導���噞を�咾�するために�k肌脱ぐ、というボランティア�@神を日本の官�^が�eたなければできない。このボランティア�@神（日本語では滅�M�拿o）は極めて�_要な�T識である。�O分たちの�W下り先を見つけるためにコンソシアムや組�Eを作るのではないかという国�cの疑念を�Oら払しょくさせることができるからだ。国家官�^の���Lに期待したい。