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UnitedSiC社、SiCパワーJFETで750V、18mΩのをリリース

SiC専門のパワー半導メーカー(sh━)UnitedSiC社が耐圧750Vと高く、オンB^が18mΩ/60mΩと低いSiCパワーFET(図1)をリリースした。狙うx場は主に電動O動Z(EV)とデータセンターの電源、ソーラーシステムのインバータや蓄電池向けチャージャー。EV向けのオンボードチャージャーとDC-DCコンバータ向けなどはすでに出荷中だとCEOのChris Dries(hu━)は言う。

新の要

図1 750Vで18mΩのSiCパワーFET 出Z:UnitedSiC


このチップの長は、単位C積当たりのオンB^がj(lu┛)幅に小さい(図2)だけではなく、スイッチング出失エネルギーEossが少ない。EossはFETの出容量Cossに蓄積されるエネルギーでターンオンとターンオフ時のスイッチング失をしている。加えて、来のSiCパワーMOSFETは、ゲートがゼロ電圧でも完にオフせずリーク電流が流れるため、ゲートに負の電圧をかける場合がある。このためバイアスが2電源要とされているが、このFETでは負電源は要らない。ゲートしきい電圧Vthは5Vに設定している。


RDS(on) x Area

図2 オンB^がずばsけて低い750V、18mΩのSiCパワーFET 出Z:UnitedSiC


このFETチップは実は、パワーJFETとそのソース-ゲート間にSi MOSFETをカスコード接している(図3)。JFETだけだと、ゲートに負電圧をかけなければオフできないノーマリオン型になってしまうが、カスコード接することによって、ゲートに負の電圧をかけなくてもキャリア(電子)をオフできる。来のSiC MOSFETだとe型構]であってもMOSのチャンネル覦茲鯆(c┬)する。SiCはチャンネル‘暗戮Siの1/10度と小さいためチャンネルB^成分がj(lu┛)きくなり、オンB^が下げられなかった。パワーJFETだと、基のドレインから表Cのソースまでe(sh┫)向にバルクを伝わって電流が流れるため、MOS構]ができておらずオンB^が小さい。


Cascode technology

図3 SiCパワーJFET屬SiMOSFETをカスコード接してスタック 出Z:UnitedSiC


来のSiCパワーMOSFETだと、650V/600VのがHいが、今vのJFETのようにわずか100Vでも高い(sh┫)がマージンを拡j(lu┛)でき使いやすい。400V/500Vのバス電圧を使うような応(データセンターなど)では600Vでさえマージンが狭い。

SiC JFETはかつてInfineon TechnologiesがSi MOSFETをカスコード接させたSiC パワーJFETを開発していたが、コストが高Vまりしてユーザーにw遠されたというZい経xがあった。このため最ZのInfineonはSiC MOSFETに集中している。

そこで、UnitedSiC社は、Si MOSFETとSiC JFETをスタック構]にして図3のようにボンディングワイヤーで接、1パッケージに搭載することで、コスト峺(j━ng)を抑えた。これによって、構]が複雑だが性Δ優れたプレミア型SiのスーパージャンクションMOSFETと同等の価格帯に抑えることができたとDries(hu━)は語っている。

このSiCパワーFETは、導通失もスイッチング失も来のデバイスよりも少なく、かつ750Vという高耐圧化が可Δ砲覆蝓△靴も0〜12Vのゲート電圧でドライブできるため使いやすくなった。

このT果、EVのオンボードチャージャーやDC-DCコンバータなどの応向けに(sh━)国x場で採され、出荷しているという。オンボードチャージャーはv撻屮譟璽をかけた時や交流で充電するような場合にバッテリを充電するためのv路であり、DC-DCコンバータはk般に300V〜350Vの高電圧になるようにLiイオンセル電圧を直`・並`に接しバッテリパックを構成するが、この高電圧から12Vあるいは5Vに変換するために使われる。しかも最Zでは300Vよりももっと高い400V/500Vなどの電圧が検討されており、今vの750V耐圧のパワートランジスタが望まれる。

EVだけではない。データセンターでは巨j(lu┛)なサーバーの電源が要なため、やはり高電圧が求められ、しかも省エネの菘世ら効率の高さも求められる。電源には、率改トーテムポールv路やDC-DCコンバータが使われているが、新型コロナによるWFH(Work form Home)やテレワークによって、データセンター要が\えているという。さらにソーラーシステムでも昼間に発電した電を架線に戻すためのインバータに加え、蓄電のバッテリシステムへの充電v路にも今Qから出荷されるようになった。

今vのは同社にとって4世代に当たり、プレーナ構]からトレンチ構]に々圓靴燭海箸妊丱襯JFETのセル密度を屬押低いオンB^を実現したという。

UnitedSiC社は、(sh━)ニュージャージーΔRutgersj(lu┛)学からのスピンオフで1999Qに設立され、SiCプロセス開発を行っていたが、2009Qに業家に譲渡され、ビジネスが始まった。プリンストン郊外にパイロットラインのクリーンルームを作りSiCプロセスを確立、ファウンドリに‥召任るようにした。ファウンドリがラインを構築した時点で、UnitedSiCはファブレスになり、設やカスタマサポートに集中できるようになった。

(2020/12/02)
ごT見・ご感[
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