この�}法を使えば、例えば光源の形�X(ju└)を最適化することで、コントラストのはっきりしたパターンを�Wくことができる。4つの照��形�X(ju└)を�eつ��来のクェーサー型の光源形�X(ju└)の場合だと、パターン線�屬離圈璽�値とパターン線以外（バックグラウンド）の光��(d┛ng)度との差が少なかった。このため、4つの照��形�X(ju└)を�T��した光源でシミュレーションしたところ、パターン線�屬離圈璽�値は��来のクェーサー型よりも高く、パターン線以外の値は低かった。つまりコントラストはより�z��になった。これが光源形�X(ju└)の最適化である。

マスクパターンを�T��するためのシミュレーションは今後ともやはり�_要な�\術であると、Brion社社長のJun Ye��(hu━)は述べている。プロセスウインドウを確保するOPC�\術のTachyon-OPC+という����は、解�掬抂焚爾離僖拭璽鵑虜播�配��をプロセス条�Pの�U(ku┛)限の元で行う。ラインの�k�陲�くびれるネッキングやパターンがつながってしまうブリッジングなどの歩�里泙蠅妨�くパラメータを発見できるというメリットがある。そのようなパラメータを最適化すると歩�里泙蠍��屬北鯲�つ。

光絞り(pupil)�Uは、�Z接効果の振る舞いを��めるが、光源�Uよりも設��の�O�y(t┓ng)度が少ないという。光絞り�Uの最適化は、プロセスドリフトを����するために使われるが、まだ最適化�}法を確立していない。

4番�`のウェーハプレーンでの最適化については、光の照�o(j━)量やアラインメント�U(ku┛)御などをモデル化する。ここでは親会社のASML��のモデルを使う。

これらの最適化�}法は共通で、まず�莟Rするパラメータ----マスクプレーンならウェーハ形�X(ju└)やプロセスウインドウ----を集める。このパラメータは�`�Y値との差となる。次に�`�Yとの差を最適化するためのアルゴリズムを実行する。その�T果、�U(ku┛)御すべきパラメータをチューニングし設定しなおす。それを最初のパラメータ収集に戻し、この作業ルーチンを繰り返す。

マスクを作成した後でも、光源･光絞り･ウェーハの3つのプレーンでチューニングは可�Δ世箸靴討い襦�