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フォトレジストのJSR、国営ファンドがA収へ

週の土曜日、噞革新投@機構(JIC)がフォトレジストj(lu┛)}のJSRをA収するというニュースが流れた。実現すればc間企業から国策会社に変わる。また、半導をはじめとする工学Uへの(j┼n)性参加を後押しする試みが出している。4QU(ku┛)j(lu┛)学で工学陲某覆獪(j┼n)性の割合は儼曾j(lu┛)学の20.2%が最高で、県内の中学・高鬚能伉ス岷Iや進路相iを行っている。

JSR採ページ

図1 JSRのホームページから


6月24日、BUファンドのJICがレジストj(lu┛)}のJSRを1兆でA収する、というニュースを日本経済新聞が流した。日経は、「Bは半導を戦S飩@と定め、国内で先端?j┴)の量に巨Yのмqを始めた。国際争が(d┛ng)い素材分野でも成長投@をM(f┬i)できる環境をDえ、素材からまでの半導サプライチェーン(供給)を(d┛ng)くする」と報じたが、翌日曜日には「JSRは24日、JICによるA収について、『検討していることは実だが、定している実はない』と発表した。26日に開くD締役会に議する予定」と報じた。

どうやら、BないしJSRがリークした模様で、本日のD締役会の議で式にまる可性が高い。日経はJ成実のように、24日、25日とも報じているからだ。24日の日経報Oでは、グローバルマーケットモニター社によるx場シェアの図を載せていたが、それによると、フォトレジストのシェア1位が28%のJSR、2位東B応化工業の21%、3位DuPontの15%、4位信越化学工業13%、5位富士フィルム10%となっている。フォトレジストのx場模は、x場調h会社の富士経済によると、2020Qには16.3億ドル、26Q24.9億ドルに成長し、1.5倍に膨らむとする。逆に言えば国別のシェアこそ、日本企業が高いが、x場模は小さい。

BUファンドが配する「国策会社」となれば、@金はl富に使えるかもしれないが、争ではどうだろうか。これまでは、官^的な国策会社をc営化してきた。その理y(t┓ng)は、c間企業との争をつけるためだ。鉄Oや電B、電などでc間会社になってからそれまでになかった様々なサービスを擇濬个掘提供してきた。官の国策会社では提供されるサービスは少なかったが、国に守られてきた。

半導やITのような争のしい噞では、のんびり開発はされない。良いものをいかに早く開発するかが最優先項である。フォトレジストもそのような性格の噞である。この先、先端的なEUVリソグラフィでも、ダブルパターニングが主流になりつつあり(参考@料1)、また高NAの反o(j━)U光学システム、さらには現在の13.5nmに代わる]S長6.5nmを出すドロプレットの採、S長を変えられるOy(t┓ng)電子レーザーを使った新光源など新しいEUV\術が呂┐討い襦だからこそ、投@Jがかかることは実だ。

しかし、オランダのASMLがEUVを開発するうえで、(l━)在ユーザーとなるTSMCやSamsung、Intelからも開発Jを集めたように、@金調達ξの高い経営vが求められる。さもなければ世cとの争にMちえない。JSRが国策会社を(li│n)ぶとしてもスピード感を失わないでいただきたい。

また、半導が成長噞であることを理解されるようになってきたことは喜ばしいが、人材開発がだ。もはや人材は日本人の男性だけで(li│n)んでいては成長に間に合わない。(j┼n)性や外国人などH|H様な人材がL(f┘ng)かせない。そんな折、24日の土曜日の日経には、(j┼n)性の理工U人材の育成とに関する記が掲載された。「経済協開発機構(OECD)の2019Q時点の調hによると、高等教育におけるSTEM(科学・\術・工学・数学)分野の卒業擇里Δ爽(j┼n)性比率が日本は17%、と比較可Δ焚談噌颪悩撚式未世辰拭OECD平均は32%」と報じられた。

また、4QU(ku┛)j(lu┛)学の工学U学陲某覆鵑誠佑琳(j┼n)性の比率が最も高いのは儼曾j(lu┛)学の20.2%が最高だった。2割をえた唯kのj(lu┛)学だ。儼曾j(lu┛)では(j┼n)性教^やj(lu┛)学院擇鯀避Eし、県内の中学・高鬚能i講Iや進路相iを実施しているという。研|vへのOが(j┼n)性にも開かれていることを初めて(m┬ng)った擶Pがいて、今後の(li│n)I肢に入りそうだ。

東B工業j(lu┛)学が24Q度の入学vの入試で4つの学院(理工学院、情報理工学院、斂人工学院、環境・社会理工学院)で新(li│n)sによる58@の(j┼n)性枠を導入、25Q4月入学では学鮨篩Ψ紳(li│n)sを実施する。それでも学士課学Qの募集人^1028人の14%にすぎないという。半導企業が集積するy本県では、y本j(lu┛)学が学霑蠹の「情報融合学環」を24Q春に創設し、学鮨篩β(li│n)s15@の内8@を(j┼n)子枠とする。@古屋j(lu┛)学でも工学陲瞭試に(j┼n)子枠を導入している。

参考@料
1. 「Applied、EUVの∨,鯣裳(f┫)させるパターンシェイピングを開発」、セミコンポータル (2023/04/25)

(2023/06/26)
ごT見・ご感[
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