これまでこの��画には��湾のTSMCが参加していたが、今�vSTマイクロの参加により、マスクレスリソグラフィ�\術が加�]する。この3カ�Q��画に参加すると、マスクレスリソグラフィの仕組みを使うことができ、スループット向�屬里燭瓩�MAPPER�\術も使うことができる。MAPPER�\術は、電子ビームを��並�`に発�o(j━)するためのプラットフォームであり、この����の提供はコラボレーションすることで使うことができる。MAPPERの����局はオランダのデルフト工科�j(lu┛)学にある。このマルチプル電子ビームリソグラフィ��画は、����の�h価、パターニング�\術とプロセスへの統合、データ処理、試作、コスト分析などを含み、グローバルな参加を求めたプロジェクトである。

「STマイクロはこれまで10�Q以��CEA-LETIと�k緒にマスクレスリソグラフィ�\術を開発してきた。STとCEA-LETIはフルシェイプのビーム�D形�\術を確立し、フランス・グルノーブル郊外のクロレにあるSTのパイロットラインで使ってきた。�Y��CMOSプロセスに電子ビームを使うデモを行ってきた」、とSTマイクロエレクトロニクスのシリコン�\術開発ディレクタのジョエル・アルトマン��は述べた。同��は��けて「IMAGINE��画に参加すると、��(j┤ng)来の�\術ノードに向けたマスクレスリソグラフィをSTが使えるようにするための�k歩になる」と言う。

「このIMAGINE��画は、STマイクロエレクトロニクスが�eつマスクレス�\術の�嗄�な��識とサポートの恩�Lが�uられる。CEA-LETIは電子ビームリソグラフィでSTマイクロとパートナーシップを組んで�uられた経�xはこの数�Qで�咾泙辰討�ており、電子ビームを使って先端�\術をデモしてきた。IMAGINE��画をサポートするSTマイクロと�k緒に、LETIはマスクレスリソグラフィを確実に成功に導くことができるだろうと確信している」とLETIのCEOであるローレン・メイラー��は言う。

LETI CEOのローレン・メイラー��