【動画】TSMC研�|〜会�^限定Free Webinar（9/28）
【��要】TSMCが久しぶりに日本で開��(h┐o)した記�v向けの説��会で、N2までのロードマップを紹介しました。16nmプロセスから導入されたFinFETが3次元�\術で、平�C�屬糧�細化が�Vまり、立��的にトランジスタや配線を構成することで�C積のシュリンクに変わりました。このため、7nm, 5nmのプロセスノードは立��設��に�}直しする��要があり、横�pにデザインセンターを設立しました。最先端の5nm、4nmプロセスノードの設��は日本が�}�Xけている�lです。TSMCの実��をお伝えします。
【日時】
2022�Q9月28日（水）10:00〜11:00
【議�bのポイント】
・TSMCの「微細化」�\術の進�t
・FinFETがもたらす3次元化
・LineスケーリングからAreaスケーリングへ---横�pのデザインセンター
・TSMCの�`指すプロセスノードはN2までかもしれない
・Areaスケーリングからヘテロ集積化へ---つくばの研�|所
・モノリシックはスペシャルティICへ−−−�y本に量�妌場
・ヘテロ集積の先はSi4.0か
【リンク】
SPI会�^限定Free Webinarアーカイブ
SPI会�^限定Free Webinar：ウェブだけではお伝えしきれないような�_要なニュースを分析し、�kつのテーマをウェビナーでより深堀していきます。
