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「半導噞は50~100Q後もPびける」、Sze教bのSSDM別講演

元櫂戰訶B研|所の研|^で現在湾国立交通j学教bであり櫂好織鵐侫ードj学教bでもあるSimon M. Szeが9月23日つくばx国際会議場で開された40v国際w素子材料コンファレンス(SSDM)i呂別講演において、半導ナノエレクトロニクスをベースにしたエレクトロニクス噞は今後50Q〜100Q間実に成長をけることを予言した。

Simon M. Sze


1990Qにベル研|所を55歳で定Q職した後、湾に戻り新腓砲△觜駑交通j学の教bになったSzeは「ナノエレクトロニクス\術:21世紀の課」とする講演の中で、今後の半導\術の課として、5つの問をDり屬押議bした:ウェーハサイズのj口径化、リソグラフィ、デバイス構]、配線、半導\術のエコノミーである。それぞれの課を提した後、未来について極めて楽菘に語った。

ウェーハは450mm化への課、リソグラフィは]浸、ダブルパターニング、水以外の高屈折率材料、EUVなどの可性のMしさ、FINFETなどの3次元FET構]、カーボンナノチューブFET、分子デバイス、量子ドットデバイスなどについて語った後、T局ロジックデバイスは10nmの微細化時代が来てもやはりMOSFETが主流になると述べた。

高集積化をけん引する不ァ発性メモリーについては、MRAMやFeRAM、PCRAM、RRAM、ポリマーメモリー、ミリピードメモリーなどの新しい不ァ発性メモリーのtが出ているが、T局は単純構]の浮^ゲート型メモリーがMつだろうと見ている。「Simplest is always winner」と語った。そのカギは浮^ゲートの厚さは極限まで薄くし、容量をらすことだという。

高集積なICでは、デバイスの動作]度よりも配線の気スケーリングリミットを]するとして、配線ではカーボンナノチューブ(CNT)が~望だとの見気鮨した。これはメタリックなCNTでは平均Oy工が1μm以屬板垢、B^率が5μΩcmと小さいため、10の9乗A/cm2というjきな電流密度の電流を流せる。また、シリコンベースのマイクロフォトニクスによる配線問を突破するという}も紹介した。

半導\術の経済性については、ウェーハプロセス工場の設▲灰好函運転コストが極めてjきくなるという問に瓦靴討蓮∈8紊糧焼噞の拡jにより解していくだろうと楽菘な見通しを]ち出している。2030Qには半導噞は1.6兆ドル、エレクトロニクス噞は10兆ドルになりこれは世c総攵の10%に膨れ屬ると予[している。

この根拠として、かつての`舶のタービンエンジンの[はムーアの法Г里茲ΔPびたが、1942Qにフラットになり、創成期からPびけてきた旅客機の乗客数は1979Qにフラットになった。しかし噞はともにその時から広がってきたとしている。半導噞も同様に1980Qから2000QにかけてQ率平均14%で成長したが、2000Q以Tはひとケタ%とややスローダウンしている。むしろこれから半導噞のH様化が始まり、噞が広がっていくとSzeは考えている。

こういった同の見気漏菘すぎないかという問に瓦靴董同はこれまでの半導噞を見けてきたエンジニアとして、「20Q以iには半導には1μmの壁があり、これが限cだとTexas Instruments社のk線のエンジニアが述べていた。その後0.25μmが限cだという説も飛び出した。1nmのMOSFETの動作シミュレーションにおいてやはり動作すると発表されている」と答えた。

講演会の後の懇親パーティに席屬砲いてセミコンポータルの記vの問に瓦靴討癲◆屬匹里茲Δ併にもさまざまなバリヤーを乗り越えてきて現在の半導噞がある」として、同は悲菘な限cbを述べることにT味を感じていない。

最後に、2030Qの世cx場の中で最も模のjきなは携帯型データ通信機_(portable data communication)で、1兆2600億ドルになろうと同は述べた。ちなみに2番`にjきなx場のはパソコンで9400億ドルだと予Rする。このころにはバイオテクノロジが本格化するものの、エレクトロニクスほどのjきなx場にはならず、DNA颪3200億ドルにとどまるとみている。

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