JEITAが電子情報�噞の�x場予�Rを発表したが、半導���x場は、WSTSが12月に発表した2025�Qの予�R数�C（参考�@料1）と��く同じであり、電子情報�噞の�x場の8％成長よりも高い11%成長の数�Cを使っている。JEITAの発表は、電子工業（電子機�_+電子����・デバイス）とソリューションサービス（SI開発+アウトソースなどのサービス+ソフトウエア）に分け、25�Qにはそれぞれ6%�\の2兆4130億ドル、10%�\の1兆5778億ドルと予�Rする。半導��の11%成長は、アウトソースなどのサービスの14%成長に次ぐ高い数�Cであり、電子機�_は4%成長しかない。

TSMCが半導�����]����や材料などのサプライヤーの中から、優れた貢献を果たした企業を毎�Q表彰しているが、2024�Qは表彰された27社中、14社が日本企業を��めた、と19日の日本経済新聞が報じた。今�Qは��に先端パッケージング関連の�p賞で日本企業が健�hした。この分野で�p賞した6社のうち、日本企業は旭化成、キヤノン、ディスコ、ナミックス、��浦メカトロニクスの5社が��めたという。

TSMCの�y本工場に�Zくに新工場を建設しているソニーセミコンダクタマニュファクチュアリングの�儻�宜洋社長のインタビュー記��を18日に日経地�吉任�掲載している。「TSMCやJASMで作ったロジック半導��を積層して、当社でCMOSイメージセンサとして����化するという�h価は順調に進んでいる」と�儻�社長は述べており、JASMの�n働がすでに始まっていることを��唆している。JASMの量�凮始発表は�Q内と言われてきたので、間もなくというところだろう。

CMP（化学的機械的研磨）����を���]している��原��作所は19日、�y本県南関町の工場敷地内で建設を進めてきた新たな�攵妌場棟「K3棟」の�A工式を開いた。TSMCの�y本進出などにより九�Δ拝�要が高まると見込み、�攵��ξ�を約1.5倍に高める狙いだ。K3棟は4階建てで��べ�o�C積は約1万9400平�汽瓠璽肇襦∈８���要な機�_を順次搬入し、2025�Q4月以�Tに本格�n働させる。

��菱ケミカルグループが、��九���xの拠点で半導��関連素材の投�@を加�]する、と20日の日経地�吉任�報じた。半導��基��となるシリコンウェーハの���]に使う合成石英�gの�攵��ξ�を、2028�Q9月から35%高める。���]工��に�Lかせない純水づくりに��要な�`脂や、フォトレジスト原料も25〜26�Qに�\��し、先端素材���]の�k�j拠点とする予定だという。

ASMLのEUV����の�k�陲�14日、オランダから���L�O新�h歳空港に到��した。いくつかのモジュールに分かれており、それぞれのモジュールをラピダスの工場内に搬入、組み立てる。�iにIntelのオレゴン工場に高NAのEUV����が搬入されたときの報�O（参考�@料2）と同様のようだ。18日には建設中の�h歳�xで記念式�Zを開いたと19日の日経が報じた。

EUVが今�v初めて日本に導入されたことをレーザーテックがEUV露光��マスクブランクス（原版）の�L陥検�h・�h価����「ABICS　E320」を����化し、�p�Rを始めた、と18日の日刊工業新聞が報じた。EUVのユーザーは圧倒的に�L外に�Hいが、マスクブランクスの検�hにはEUVの光（もちろん�`には見えない）を当てる��要があり、�噞�\術総合研�|所でもEUVを導入する予定になっているため、国内でもEUV����を使えるメリットがある。

図1　2nmプロセスノード以�TのEUVリソグラフィ向けフォトマスク　出�Z：�j日本印刷

�j日本印刷が2nm世代以�Tの次世代半導��向けの高NA（Numerical Aperture）に�官�したフォトマスク（図1）の基礎�h価が完了し、半導��開発コンソーシアムや���]����メーカー、材料メーカー等へ�h価��フォトマスクの提供を開始した、と12日発表した。これは、NEDOの「ポスト5G情報通信システム基盤�啣集��|開発��業」にラピダスの再委�m先として参画し、最先端ロジック半導��向けフォトマスク���]プロセスおよび保証にかかわる�\術を開発してきたもの。

キオクシアが18日�崗譴靴浸�の初値は1440��と�o開価格を15��下�vったものの、�k時1689��まで�峺�、終値は1601��だった、と日19日の経が報じた。�崗譴砲茲辰峠j株主のベインキャピタルと東��の株の�k�陲鯒箋僂靴燭�、いまだにベインが51%、東��が32%�eっている。東証プライム�x場の�崗谿欸e基��では5�Q以内に�x場で売�Aされる流通株式比率を35%以�屬砲垢���要があるが、現�Xは28％にとどまる。早�Z社長は「2社に3�Q以内の�{加売却を�任后廚箸靴討い襦�

以�屐∈ｃQ最後の週間ニュース分析になります。来�Qの半導��は�v復基調から成長基調に変わりますので、期待できると思います。週間ニュース分析をお読みいただきありがとうございました。来�Qもご愛読をよろしくお願いいたします。（��集長）

参考�@料
1. 「世�cの半導���x場は2025�Qに初の100兆��の�j��に、WSTS予�R」、セミコンポータル、(2024/12/04)
2. 「高NA EUVリソグラフィ������1�､�Intelオレゴン工場に導入、組み立てた」、セミコンポータル、(2024/04/19)