半導�����]の本格�v復期25�Q度に合わせ、工場新設が相次ぐ
工場建設の動きが相次いでいる。ソニーセミコンダクタソリューションズはタイの半導��後工��工場を完成させ、�Bセラは鹿児��と長崎に工場を�\設する。�f国のSK Hynixは�盜颪帽�場を建設すると報じられた。��菱ケミカルグループはドイツの��業拠点で半導����の�@密��浄�ξ�を5割拡�jした。研�|開発フェーズではキオクシアが研�|所を再��、�j日本印刷は2nmのフォトマスク���]プロセス開発に���}した。
図1 ソニーセミコンダクタソリューションズの新タイ工場 出�Z：ソニーセミコンダクタソリューションズグループ
ソニーの半導��グループ（ソニーセミコンダクタソリューションズ）は、タイのバンカディ地�気糧焼������]��業所内に建設してきた新工場（図1）が完成、2月から�n働し始めたことを��らかにした。ここでは�Z載��イメージセンサやレーザー、ディスプレイデバイスなどの後工��を�pけ�eつ。完成した4�ﾅ錣臨��o�C積は、ユーティリティ�霾�も含み6万6370平�汽瓠璽肇�。クリーンルームの�C積は8800平�汽瓠璽肇襪世�、今後の�攵巩��で1層から3層へ拡張されると2万6400平�汽瓠璽肇襪砲覆觚�込みだとしている。
新タイ工場のクリーンルームでは、��要な�霾�に絞って�{浄度や�a湿度を管理する空調システムを導入し、廃�Xおよび�a水を再����するリサイクル�\術などを採��しており、省エネを�膿覆垢襦�4�ﾅ鎔奮阿旅�場ではすでに再�擴��Ε┘優襯�ー100%で�n働しているが、4�ﾅ錣砲皺虻����Cに�陵杆�パネルを設��し、再エネ100%による�n働を��けていくとしている。
�Bセラは半導���v復期が25�Qになるとして、鹿児��と長崎の工場を�\設する。�Bセラは、鹿児��国分工場に�u接する土地として、�����xの田畑の�k角に、東�Bドーム2個分に当たる約10ヘクタールの工業��地を25�Qにも�D�uする��画だ。もう�kつの主���攵喤点である鹿児��川内工場（���C川内�x）の周辺でも同��模の土地を���△靴討い�、と3月27日の日経�噞新聞が報じた。
鹿児��国分工場も�\�咾垢觜修┐鮓�せている。国分工場では半導�����]����に使うウェーハを�w定するためのセラミック��のサポート基��を�攵�しており、�Bセラの谷本秀夫社長は「25�Qには作りきれないくらいの��要になる可��性がある」と見ているという。24�Qの後半には長崎県諫早�xでも工場の��工を予定している。25�Q3月期には�Bセラとして�垉邵能jの3000億��弱の設��投�@を考えており、26�Q3月期も同じ��模を投じるという。
�f国のSK Hynixはインディアナ�ΕΕД好肇薀侫�エットに約40億ドルを投�@して先端パッケージ工場を設立する��画だ、とWall Street Journalが報じた。2028�Qの�n働を�`指す。SK Hynixはメモリの3D-ICであるHBMメモリを�攵�しており、そのような先端パッケージ工場への投�@を検討しているが、まだ��定した��実はないと述べている。
��菱ケミカルグループは、ドイツのドレスデンに半導�����@密��浄��業の拠点を�eつが、この工場で��浄�ξ�を5割�\�咾靴燭�、26日の日刊工業新聞が報じた。ドレスデンにはIntelも330億ドルを投じて新工場を建設する��画を�eっているため、それに�官�する。
キオクシアは、��来のメモリ研�|所を再��し、「先端�\術研�|所」を4月1日��けで新設する。ここでは、新機��材料や新原理デバイス、新プロセスなどを探索する「コアテクノロジー研�|開発センター」、����化に向けてプロトタイプ実証開発を行う「デバイス・プロセス研�|開発センター」、そして、AI�\術の基礎研�|からその応��や次世代メモリシステムの研�|開発を行う「AI・システム研�|開発センター」の3つの研�|開発センターを設��する。
�j日本印刷は、EUVリソグラフィ向けの2nmプロセスノードに�官�したフォトマスク���]プロセスの開発を本格的に開始したと発表した。NEDOの「ポスト5G情報通信システム基盤�啣集��|開発��業」においてラピダスが�p�mした「（d1）高集積最先端ロジック半導��の���]�\術開発」にDNPは再委�m先として参画しているもの。25�Q度までにプロセス開発を完了し、27�Q度の量�凮始を�`指す。
