IC の設��分野は、中国半導���噞において、ますます�_要な位����けになっている。華��NEC は、2006 �Q1〜6 月のウェハ�攵�がファウンドリーで302,399 ��、�O社設��による�攵�は53,320 ��になり、�O社設��のウェハ（�i工��）�攵熯がウェハ�攵���模����の18%に�峺�した。
　プロセスの�\術�Cから見ると、0.5μm/0.6μm/0.8μm プロセスは80%〜90%が中国本土で�攵�されているが、0.35μm プロセスのウェハ（�i工��）の�攵�は、主に華��NEC、SMIC で行われている。0.25μm/0.18μm プロセスのウェハは、�k�陲話羚駛榲擇����]しているが、�j半が�L外で�攵�されている。
　中国のIC デザインハウスの中星微のマルチメディアIC の����出荷量は5,000 万個を��えた。�j�r微電子は、テレコムスマートIC の����出荷量が3 億個以�屬肪�している。中電華�j、�{華同�気判j�r微電子の��二世代ＩＣチップは2 億個以�屬�出荷された。これらのIC ����は、殆ど中国のウェハ（�i工��）半導��メーカーによって委�m�攵�されている。

　中国のファウンドリーメーカーとIC デザインハウスは同じ土地に立っているため、�O��に共�擺愀犬砲△蝓�互いに無��できない�T在となって、中国国内のデザインハウスとウェハの���]会社が互いに良い協業関係になっている。

　また、IC デザインハウスは、ファウンドリーメーカーにとっての“��”である。�tち、IC デザインハウスは、�O社����に最適なプロセス�\術、�O社に無い�l富なIP を�~するファウンドリーメーカーに�攵仿�mする。このため、ファウンドリーメーカーはプロセス�\術の向�屬�IP �啣修覆匹貌Dり組まなければならないのである。
　現在、中国IC デザインハウスの主要����は、0.35μm〜0.18μm プロセス�\術から、世�cと同レベルの先端65nm プロセス�\術までを使っている。例えば、深センの�L思の3G 基地局のネットワークIC チップは65nm プロセス�\術、中星微は星光シリーズで90nm プロセス�\術、中興通訊は2.5G ��IC を���]するのに90nm プロセス�\術をそれぞれ使��している。

セミコンダクタポータルのコンテンツパートナー、アレグロ　インフォメーション・インク(以下アレグロ)による、中国のエレクトロニクス・半導��・�]晶分野のマーケット情報です。アレグロは、同社独�Oの調�h及び、中国国家統��局、CCID、中国電子報、経済参考報、国際金融報などから�uたフレッシュな情報をベースに、��に中国のIT、エレクトロニクス、半導��・�]晶関連の情報収集・提供、分析、調�hを行っています。今�v、提供したのは、同社の月刊レポート「中国レポート：Electronics and Semiconductor China」の2007�Q1月�､�らの�k���s粋です。