シリコンウェーハの出荷�C積は史�嶌能j(lu┛)
SEMIは、2017�Q��1四半期(1~3月)に出荷されたシリコンウェーハの�C積が�i�Q同期比12.6%�\の28億5800万平��(sh┫)インチとなった、と発表した。この数�C(j┤)は��(c┬)去最�j(lu┛)。また、例�Qは���I的な要因で、�i�Qの��4四半期よりも下がるはずだが、今�Qの��1四半期は3.4%も�\加している。
図1 シリコンウェーハの出荷�C積 単位は��万平��(sh┫)インチ 出�Z：SEMI
SEMIのシリコンウェーハの出荷�C積の数�C(j┤)は、SEMIのSMG（Silicon Manufacturing Group）がシリコンウェーハ業�cの�T果を元に求めたもので、ソーラーに使うグレードのウェーハは含んでいない。��て半導��グレードの完���T晶のウェーハである。ウェーハメーカーから出荷された、バージンテストウェーハとエピウェーハを含むポリッシュドウェーハ、ノンポリッシュドウェーハを含んでいる。様々なテストウェーハを磨き直した再�撻ΕА璽呂牢泙鵑任い覆ぁ�
このようなウェーハ�C積の�\加は、メモリを中心とする半導���x場が��況なためである。半導��デバイスの世�c販売�YをまとめたWSTS（世�c半導���x場統��）の3月は史�嶌嚢發�335億ドル（約3兆8500億��）であった。この勢いは今のところ��いており、��2四半期も�\加��向は��くとみられる。
(2017/05/18)
