シリコンウェ〖ハの蒼漂唯が媽3煌染袋に86.5%まで攙牲
シリコンウェ〖ハファブの蒼漂唯がようやく提ってきた。JEITA染瞥攣嬸柴排灰デバイス嬸がこのほど券山したSICAS琵紛∈坤腸染瞥攣欄緩キャパシティ琵紛∷によると、2009鉗媽3煌染袋に200mmウェ〖ハ垂換のシリコンプロセスの蒼漂唯は86.5%まで攙牲した。
シリコン染瞥攣の欄緩墻蝸はこの媽3煌染袋に、210它400綏/降となり、悸抨掐眶は182它2400綏/降にまで懼競した。それぞれの漣鉗票袋孺で孺秤するとそれぞれ、13.2%負、13.6%負といずれもまだ候鉗票袋事みには毗茫していないが、蒼漂唯で斧る嘎り、2008鉗媽3煌染袋の蒼漂唯が87.0%であったことからほぼ漣鉗事みの蒼漂唯に提ったといえる。
坤腸稍斗に掐り、悸抨掐眶はもちろん締楓に你布したが、欄緩墻蝸は警しずつ布げてきたため、この媽3煌染袋も漣袋孺1.1%負であった。悸抨掐眶が漣袋孺11.1%籠であったために蒼漂唯としては1鉗ぶりに86%駱に攙牲してきたという條だ。
デザインル〖ル侍に斧てみると、80nm笆布の腮嘿なMOSウェ〖ハの欄緩墻蝸はさほど皖とさず、悸抨掐眶も2009鉗媽1煌染袋こそ絡きく柄んだが、媽2および媽3煌染袋には蝸動く提し、この腮嘿なル〖ルを蝗う黎眉プロセスのウェ〖ハが攙牲を夸渴してきていることがうかがえる。
嫡に、腮嘿步しないシリコンウェ〖ハは欄緩抨掐眶をかなり故り、媽3煌染袋になってもさほど攙牲していないように斧える。60nm踏塔のウェ〖ハの蒼漂唯は93.5%、60×80nmは95.7%、80×120nmは84.6%、120×160nmは86.4%、160×200nmは82.7%、0.2×0.3μmは81.6%、0.3×0.4μmは73.6%、0.4×0.7μmは68.8%、0.7μm踏塔は72.4%となっている。デザインル〖ルが此くなるにつれ、蒼漂唯は皖ちていくことを績している。
ウェ〖ハ仿についても票じことがいえる。300mmウェ〖ハの蒼漂唯は96.1%だが、200mmおよびそれ踏塔のウェ〖ハではそれぞれ80.2%、63.7%と皖ちている。
