nmスケ〖ルになってきた海こそ、コラボの箕洛≥セマテックの鈣びかけ
勢(shì)柜を凋爬とするセマテック∈SEMATECH∷は、鼎票倡券のコンソ〖シアムだが、ナノメ〖タスケ〖ルの海こそ、その澀妥拉を棱いている。劉彌ˇ嬸亨メ〖カ〖にとって甫墊倡券抨獲があまりにも籠絡(luò)したからだ。セミコンジャパン介泣の答拇怪遍でもインテルジャパンの等拍下賴(lài)家墓は1家で倡券するのではなくみんなでコラボする箕洛になったと揭べた。
哭1 SEMATECHシニアディレクタのMichael Lercel會(huì)
セミコンジャパン呵姜泣には染瞥攣甫墊倡券コンソ〖シアム、セマテックのシニアディレクタであるMichael Lercel會(huì)(哭1)が瀾隴劉彌ˇ亨瘟もナノメ〖タ箕洛にはコラボが風(fēng)かせなくなる、と揭べた。このコラボレ〖ション寥駿を網(wǎng)脫すれば1家碰たりの倡券砷么は汾負(fù)されるはずだ。プロセス倡券や你コスト禱窖の倡券といったテ〖マでコラボレ〖ションを渴めてきたセマテックだが、海では息水蠟紹からの獲垛は1セントも掐っていない。措度が獲垛を叫し圭い倡券砷么をシェアするようになり、コラボレ〖ションのビジネスとして費(fèi)魯できるようになっている。
染瞥攣緩度は墓袋弄には喇墓緩度であることは恃わりないものの、1家碰たりの甫墊倡券銳が潤(rùn)撅に籠えてきている。瀾隴劉彌メ〖カ〖の卿り懼げはリ〖マンショックで皖ち哈んだが、揉らの甫墊倡券抨獲はやや皖ちた鎳刨にとどまった(哭2)。というのは、劉彌輝眷は采貍步の數(shù)羹に羹かっており、絡(luò)緘のプレ〖ヤ〖が荒っているからだ。辦數(shù)、劉彌羹けのサプライチェ〖ンの面にある嬸亨メ〖カ〖にとっては劉彌輝眷の恃瓢が絡(luò)きすぎると票箕に、甫墊倡券抨獲も籠やせない覺(jué)斗になっている∈哭2∷。
哭2 瀾隴劉彌メ〖カ〖のR&Dコスト(懼)は恃わらないが嬸亨メ〖カ〖のそれ(布)は肥丹に焊寶される
そこでセマテックは、嬸亨メ〖カ〖を肩な灤據(jù)として、コラボレ〖ションによって甫墊倡券銳砷么やリスクを汾負(fù)しようと鈣びかけている。呵も獲垛のかかるテ〖マとしてEUVがある。EUVの悸脫步には劉彌そのものの各富の啼瑪はもちろんあるが、それ笆嘲にもマスクやマスクブランクス、レジスト倡券、ナノスケ〖ルの風(fēng)促浮叫などの啼瑪も懷姥している。
EUVマスク浮漢劉彌の輝眷そのものはさほど絡(luò)きくない。しかしEUVリソグラフィ禱窖を悸脫步するためにはこの劉彌倡券は風(fēng)かせない。浮漢劉彌の倡券には叼絡(luò)な抨獲が澀妥となる。1家では氦豈であろう。レジストも票屯、EUV脫のレジスト倡券を1家で乖っていては抨獲の攙箭は豈しい。マスク浮漢も20nmレベルの風(fēng)促浮叫には倡券抨獲馳は叼絡(luò)になる。
マスク簇犯では、セマテックにはEMI∈EUV Mask Infrastructure∷Initiativeというプログラムがある。翁緩羹けのEUVマスク浮漢劉彌を聯(lián)び倡券するためである。風(fēng)促の浮漢や餞賴(lài)、浩チェックが廟蝸尸填である。このプログラムのカギは4つある。答饒浮漢、ブランクス浮漢、パタ〖ン浮漢、そしてEUV AIMSプロジェクトである。4戎謄のセマテック-ツァイスのEUV AIMS鼎票プロジェクトは候鉗幌まり(哭3)、4家の柴鎊措度が徊裁している。
哭3 セマテックとツァイスのEUV AIMS鼎票プロジェクト 叫諾¨SEMATECH
レジスト倡券では、リソグラフィ劉彌が風(fēng)かせないが、レジストメ〖カ〖が光擦なEUV劉彌を關(guān)掐するのは豈しい。2003鉗にはスキャナ〖∈リソグラフィ劉彌の1鹼∷の士堆擦呈の60擒というレジスト輝眷だったが、2011鉗にはEUVスキャナ〖の15擒ほどに、スキャナ〖1駱の擦呈とレジスト鏈攣の輝眷との汗が低まっている(哭4)。そこで、セマテック柒に肋惟したRMDC∈Resist and Materials Development Center∷において24箕粗、レジスト倡券に艱り寥めるようになっている。2008鉗笆丸艱り胺ってきた亨瘟の蕪紛は1它3000鹼梧にも第ぶ。ウェ〖ハ眶は2它6000綏になる。それでもレジストメ〖カ〖から刪擦妥滇されているレジスト亨瘟の鹼梧は驢く、その妥滇と丁惦とのギャップは巴臉として絡(luò)きい。
哭4 レジスト輝眷鏈攣はEUVスキャナ〖部駱尸々
セマテックのオルバニ〖では、これまでNA0.3のレンズ(瓤紀(jì)廢)を蝗い、16nmのイメ〖ジングを乖ってきており、溪各したウェ〖ハの眶は鉗粗6000綏に第ぶ。2013鉗にはNA0.5のレンズで12nm笆布のパタ〖ニングを乖う紛茶であり、鉗粗の借妄翁も6000綏を畝える紛茶にしている。レジストのアウトガスについても甫墊しており、ASMLのEUV劉彌NXE3100を蝗脫してレジスト亨瘟を刪擦している。
哭5 セマテックのRMDCは2013鉗に12nm笆布のレジストパタ〖ンに末里 叫諾¨SEMATECH
20nm笆布の風(fēng)促浮叫は腳妥な禱窖の辦つであり、海稿EUVマスクブランクスにおいて風(fēng)促の票年はカギとなる。風(fēng)促票年ˇ浮叫浮漢にかかるコストはこれまでの50nm鎳刨の風(fēng)促で眶100它ドル憚滔だったが、20nm笆布では3000它ドル憚滔になると斧姥もっている。セマテックには1帛ドル陵碰の肋灑を?yàn)ⅳà縈BDCがある(哭6)ため、倡券抨獲に獲垛を抨掐できない亨瘟メ〖カ〖にとっては光擦な肋灑が蝗えるというメリットがある。
哭6 セマテックではEUVレジスト倡券に澀妥な劉彌を蝗える 叫諾¨SEMATECH
潑に、EUVは僑墓が13.5nmと起X俐に奪いため、譬冊(cè)レンズではなく瓤紀(jì)廢レンズを蝗う澀妥がある。マスクブランクスではガラス答饒懼にSi泅遂4nm、Mo泅遂3nmを帆り手し部霖にも姥霖していく。端めて剩花な菇隴になっており、燼や風(fēng)促の掐る途孟が絡(luò)きいため、クリ〖ンなマスクを侯り瓷妄することが豈しい。EUVの草瑪は驢い。
