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東Bエレクトロンの東会長、統合のTIを語る

東Bエレクトロンの代表D締役会長兼社長の東哲rが25vファインテックジャパンの基調講演において、Applied Materialsとの経営統合の発表があって以来、初めてo式の場で、そのTIについて語った(図1)。

図1 25vファインテックジャパンで講演する東Bエレクトロン代表D締役会長兼社長の東哲r

図1 25vファインテックジャパンで講演する東Bエレクトロン代表D締役会長兼社長の東哲r


両社の経営統合が発表されたのは、2013Q9月24日。以来、統合に向けて地Oな作業を進めてきた。統合に踏み切った背景は、時代のjきな流れ、すなわちメガトレンドにpったものであった。

半導噞のjきな長のkつが半導チップの広がりである。これまでのコンピュータハードウエア主の時代から、ITをする時代に変わりつつある。メインフレームからEWS、パソコン、スマートフォン/タブレットへとダウンサイジングがやってきて、次の時代はIoTになることは間違いない。てのハードウエアがインターネットにつながるIoT時代には、情報量は膨jになり、j量のデータをさばき、ストアすることがマストになる。IoT端の量だけではなく、クラウドベースの処理、データセンターのj容量化、仮[化なども要求されるようになる。このために求められる半導は、高]化とj容量化、低消J電化を満たしたうえで低コスト化が絶款鴕Pとなる。

ところが半導\術は、微細化\術開発が現在10nm、今後7nm、さらに5nmへと向かうにつれ、原子レベルにZづくため、駘限cがってくる。トランジスタ構]はFinFETのような3次元になり、SiGeやIII-V化合馮焼をチャンネルに使うなどの検討がなされている。加工\術もマルチパターニングやEUV、さらにはDSAなどの研|も進められている。研|開発は、来の長の微細化1本だけではもはや立ちいかなくなったというT味である。

現実に、半導]メーカーにとっても研|開発Jは\している。メーカー岼4社(Applied Materials、ASML、TEL、Lam)の研|開発Jは2014Qには40億ドルに達し、売幢Yの16%にも\加した(図2)。半導開発が、3次元・新材料・新\術という\術的なバリアが高くなるk気如低コスト化も図らなければならない。もはや1社では開発が困Mになってきた。例えば、これまで1社でj口径化はできなかった。6インチ化、8インチ化もそうだった、と東は言う。


半導]岼4社の研|開発Jと売嵌耄─―儘Z:東の講演を元にセミコンポータルが加工

図2 半導]岼4社の研|開発Jと売嵌耄─―儘Z:東の講演を元にセミコンポータルが加工


ビジネス環境も変わってきた。アジアの頭である。「顧客の課を素早く解するサービス&\術、さらに新興国・発t峭驂x場で通するコストパフォーマンスを提供すること」も加わる。東は「\術課とビジネス課を解・実現するためには、ゼロから出発する要がある」と述べた。

経営統合ではなく、コラボレーションという}もある。しかし、緩いコラボには限cがある、と東は考えた。国内ではB中心のコラボレーション、研|組合を何度となくやってきた。しかし、研|開発現場では、それぞれの会社からやってきたため、秘密保eの菘世ら、見ざる・言わざる・聞かざる、という度で研|開発に臨んできた。しかし、そのT果、日本の半導噞はますます弱化していったという歴史がある。東は「もっと深く、もっとwいきずなでTばれたコラボでなければならない」と考えた。

このT果、経営統合がこのソリューションとなった。Appliedをんだのは、\術的、財的にも喇wなところと組むためだった。Appliedは言うまでもなく、トップ企業である。しかも、両社はのダブリがさほどないという。TELは塗布現機拡g・成膜、浄、絶縁膜エッチ、プローブテストに咾、Appliedは成膜、イオンR入、平Q化、コンダクタエッチ、L陥に咾ぁお互いに完関係が成立している。

東は、「2社の咾澆鮨靴燭僕珊腓掘\術ブレークスルーを提供する」とし、さらに「T表みたいなものですが、とiきしたうえで、我々は、顧客の直Cする高次元の\術課を、より迅]に、効果的に、低コストで解するグローバル・イノベーターを`指します」とTんだ。

(2015/04/08)
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