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中国・無錫の・材料t(j┤)会で見た国僝への執念

中国では共欃・Bのмqを背景に、半導]・材料メーカーがx場シェアを]に拡j(lu┛)している。しかし、商{慣や言語の違いのため、日本ではその実を確に判することがMしい。9月に中国・無錫xで開かれた]・材料のt(j┤)会を察した中国の噞調h会社MIRの来長M・日本法人副社長(図1)に、その成果や中国の・素材メーカーに瓦垢觚(sh┫)を聞いた。

MIR日本法人 来長M副社長

図1 中国の噞調h会社MIRの来長M・日本法人副社長 撮影筆v


Q: 9月崕椶北擬發燃かれた「13v中国半導設◆Υ(chu┐ng)・材料t(CSEAC 2025)」を察しました。察の狙いは何でしょうか。

A: 当社は]業を中心に中国の噞調hを行い、日本企業などに調hレポートを提供することを主業としている。ファクトリオートメーション(FA)機_(d│)や噞ロボットも(j┫)にしているが、最Zは半導]に関する調hの依頼がHい。CSEAC 2025(図2)は中国地場のメーカーから最新情報を直接収集する好機だと考えた。


CSEAC

図2 CSEAC 2025の会場 出Z:^真撮影MIR


CSEACは半導噞の国際団SEMIが帷L(zh┌ng)xで毎Q開くセミコン・チャイナと違い、L(zh┌ng)外企業による出tがほとんどない。来場vもj(lu┛)半が中国人なので、t(j┤)ブースに行って中国語でBしかければ中国企業の本音を聞けそうだと考えた。


Q: CSEAC 2025にどんな印(j┫)をQきましたか。

A: (r┫n)常に気があった。FA機_(d│)やロボットのt(j┤)会が最Z、中国景気の(f┫)]のためrり屬りをL(f┘ng)くのと款氾だった。出t企業や来場vが共欃・Bは「サプライチェーン(供給)の(d┛ng)顕宗廚魴任欧独焼噞へのмqをけると確信しているためだ。実際に、会場では中国の・材料メーカーが実を高めていること肌で感じた。


Q: 最もR`した企業を教えてください。

A: まずは深圳x新n来\術(サイキャリア)だ(図3)。2021Q設立と新興のメーカーだが、通信機_(d│)j(lu┛)}の華為\術(ファーウェイ)と協してEUV(極端外線)露光を開発中だとの噂がある。今vは露光のt(j┤)はなく(図4)、ブースも素だったが、かなりHくの来場vが集まっていた。


CSEACでのSiCarrierブース
図3 サイキャリアのt(j┤)ブース 出Z:^真撮影MIR

SiCarrier EPI(峨眉)

図4 サイキャリアのモックアップ 出Z:^真撮影MIR


当社の調hによると、サイキャリアは広東省深センxB傘下の投@会社が15億元(約320億)を出@して設立した。そして22Qに、ファーウェイで基礎\術を}がける組E「2012実x室」から、3000人の\術vをQえる「星光工陝廚サイキャリアに丸ごと\劼靴新設の国~企業でありながら、@密機_(d│)に関する20Q間の研|開発の蓄積をQえる異なT在として成長をけている。

「峨眉僉廚覆秒羚颪@僂砲舛覆@でi工を販売しており、pR残はすでに1000億元をえている。売峭發25Qに45億元、26Qに75億元、28Qに169億元を`指している。企業価値はすでに露光分野を除いて650億元に達し、27Qの新株式o開(IPO)を画しているようだ。


Q: ]の中国最j(lu┛)}、(sh┫)華創科\集団(NAURA)の動向はいかがでしたか。

A: Bxに本社をくNAURAもi工を}Xけ、現在は「のNAURA、南のサイキャリア」と並び称されるT在だ。6月にはウェーハ浄メーカーの瀋陽芯源微電子設◆淵ングセミ)に@本参加して約18%を出@する筆頭株主となっており、サイキャリアをT識してぞろえを拡充している。


CSEACでのNAURAブース

図5  NAURAのt(j┤)ブース 出Z:^真撮影MIR


NAURAのt(j┤)ブース(図5)で印(j┫)的だったのは、のメーカーによる出tがあったことだ。このメーカーはNAURAの業靆腓涙kつだったが、他のメーカーへの供給を拡j(lu┛)するため、最Z分社したようだ。中国のメーカーはZQ、確かに中国のx場でシェアを拡j(lu┛)しているが、基(chu┐ng)を輸入に頼っている例がHかった。を業cで共~しようとするNAURAグループの動きからは、官c挙げて供給の(d┛ng)顕修砲ける中国の執念を感じた。


Q: 他にはどの企業にR`しましたか。

A: 浄最j(lu┛)}のr美半導設◆ACMリサーチ:図6)にR`した。当社の調べでは、中国の浄x場には地場メーカーが約40社T在し、シェアを合すると24Q時点で26%と国僝率が(r┫n)常に高い。ACMはその先頭に立っている。式とバッチ式をk化した浄を世cで初めて開発するなど思[も独で、f国SK hynixへの納入実績もある。


CSEACでのACMブース

図6 ACMリサーチの浄のモックアップ 出Z:^真撮影MIR


エッチングに(d┛ng)い中微半導設◆AMEC)は売峭發\している点だけでなく、創業vの尹志堯董長の発言にR`している。尹(hu━)は(sh━)アプライドマテリアルズ出身の\術vだが、中国の半導業cの実を冷にh価していることで(m┬ng)られる。勇ましいスローガンを語る経営vがHい中、L(zh┌ng)外企業との\術の差を認めつつ、k歩ずつキャッチアップしようとする経営e勢を棖い討い襦


Q: セミナーの聴講ではどんな成果がありましたか。

A: CSEACの主(h┐o)団である中国電子専設工業協会の金T忠・常副秘書長の講演が印(j┫)的だった。金(hu━)によると、会^企業82社の24Qの「営業収入」(売峭發任呂覆、実際にv収した金Y)は約1178億7100万元とiQから32.9%\加した。1000億元越えは初めてだそうだ。ただ、x場は変化しており、24Qはアナログ半導のが売れなくなるk(sh┫)、ロジックICやメモリの検h・封Vメーカーが成長したと語っていた。


CSEACでのAMECブース

図7 AMECのt(j┤)ブース 出Z:^真撮影MIR


金(hu━)は中国メーカー岼9社の24Qの開発投@が124億5300万元とiQ比で31.7%\えたこともらかにした。平均で営業収入の12.3%をめ、このうちNAURAとAMEC(図7)は20%を投入したという。また、かつては国をAったユーザーは検収に(r┫n)常に時間をかけていたが、現在はkQも検収すれば量ラインに投入するとも指~していた。外国人の聴がほとんどいなかったため、金(hu━)は本音で語っていた印(j┫)をpけた。

帷L(zh┌ng)集成電路材料研|院という会社のセミナーも興深かった。これは中国を代表するBU研|機関である中国科学院帷L(zh┌ng)マイクロシステム・情報\術研|所やシリコンウエハーj(lu┛)}の帷L(zh┌ng)躱噞集団が20Qに共同で設立した半官半cの会社だ。CMP(化学的機械研磨)研磨剤など、日本が(d┛ng)みをeつ半導材料の研|開発にDり組んでいる。

かつてでも同様のスキームがあったが、開発した材料の性試xを帷L(zh┌ng)にあるo的施設が个栄蕕辰導発期間を](m└i)縮しようとしている。半導材料は様々な原料を混ぜて`Yの性Δ鮗存修垢襪、セミナーでは人工(m┬ng)ΑAI)を使って理[的な配合比率や攪拌(sh┫)法を導き出す}法を紹介していた。

聞き}:桜美林j(lu┛)学任教b 囘勅平
ごT見・ご感[
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