SMICが�]浸ArFマルチパターニングを��いて（EUV露光を使うことなく）中国内の仮�[通貨�D引業�v向けに7nmデバイスを���]していたことがリバースエンジニアリングでわかるやいなや、�盜駭��Bは�O国では開発も���]もしていない�]浸ArF露光����の�潅羔慷△鯑�本およびオランダに要�个靴討�た。これを�pけて日本���Bは、輸出���U半導������など23���`の中に�]浸ArF露光����（�R1）を含めた改��省令を2023�Q7月から施行しようとしている��（参考�@料1）。

そんな中、「���B、ハルビン、長春にある中国の3つの研�|機関のチームが協��して密かに開発してきた最先端EUV露光����のプロトタイプを完成させた」と�k�陲涼羚颯瓮妊�アが伝えている。中国科学院�i院長で中国共�欃�i中央委�^の白春礼��が、去る4月13日午後、吉林省長春�xにある中国科学院���鐵構娶�学・�@密機��・�駘�研�|所を��察して����の開発�X況を確認し称賛したという��数�Q以内にEUV露光量������開発のメドが立っているとも伝えられている。プロトタイプがどのような性�Δ�は��らかになっていない。

図1：EUV露光研�|�v（�^真左）から開発したEUV露光����の説��を�pける中国科学院�i院長の白春礼��(�^真中央)　（出所：国立長春光学�@密機械�駘�研�|所、2023�Q4月13日）

中国では20�Q以���iからEUV露光の研�|が行われていた

長春光学・�@密機��・�駘�研�|所は、すでに 2002�Qに中国初の EUV リソグラフィ原理確認����を開発し、0.75 nm RMS よりも優れた�S�C収差を�~する 2 ミラー EUV リソグラフィ���颯譽鵐� システムの開発に成功していた。その後も研�|を��け、 2017�Qには線幅32 nm�官�EUV露光����試作に成功し、その後5nmデバイス向けEUV露光����の開発を行ってきた。

EUV露光�\術については、ハルビン工科�j学（Harbin Institute of Technology）でも長く研�|開発が行われてきており、現在、長春研�|所と協業���Uにあるという。EUV露光����向けの���@密マスク/シリコンウェーハステージは、�{華�j学の�O玉教�bが率いるチームがすでに2014 �Qに開発しており、すでに長春研�|所に提供された。華為（Huawei）の研�|所も長春にあり、EUV露光����の�邵濺�ユーザーとして、EUV露光����開発に協��しているという。

蘭ASML Holdingsのピーター・ウェニンク最高経営責任�v（CEO）は、中国でのこれらの動向を把�曚靴燭Δ┐�、4月26日の�Q次株主総会で、「中国が外国��の���]����の調達を���Uされている�X況で独�Oの����開発を�`指すのは当��だ。��争相�}（中国）が露光����を�攵�するのは�O��の成り行きなので、ASMLは最�jの半導���x場である中国へのアクセスを維�eするのは��要不可�Lである」と述べている。中国への露光����輸出���Uは、�盜駭��Bの�T向であって、��してASMLの�T向ではなく、ウェニンクCEOはかねてから、���Uは中国の�O主開発を�膿覆垢襪世韻世微Z言を呈していた。

中国スパコン開発と同じ成り行きで�O主開発加�]か?

ここで思い出すのが、中国におけるスーパーコンピュータの開発である（参考�@料2）。中国では、今世紀初めには、スーパーコンピュータが�S無の後進国だったが、中国は今や世�c最�Hのスパコン保�~国になっている。2015�Qに、�盜颪�、Intel��CPUチップを搭載した中国��の世�c最高�]のスーパーコンピュータが中国内で核開発に使われている��実を把�曚�、Intel��のスパコン��ハイエンドCPUの中国への輸出を禁�Vした。それを�pけて、中国���Bは、10�Q以�屬砲錣燭蟾餡肇廛蹈献Д�トとしてひそかに�O主開発してきた独�OのCPUチップ（260コアを搭載した「Sunway SW26010」）を採��した国��スパコン「神威・�慮佛係�」を�o表し、いままで世�c最高�]だったIntelチップ採��の中国��「�W�Q2�｡廚�3倍の演�Q性�Δ鮗存修靴�。

ちなみに、この中国��CPUは、2003�Qに設立された国家高性��IC�帷L設��中心（Shanghai High Performance IC Design Center）が密かに設��してきたものである。なお、この国立研�|所は、国家�W��保�W�屬陵��yで、コンピュータCPUチップ国�僝を�`指して2003�Qに設立されたが、その�T在は�瑤蕕譴討い覆�った��「神威・�慮佛係�」は、2016�Qに世�c最高�]スパコンに認定され、20217�Q11月まで世�c最高�]機として国際的に認定されていた。

中国のEUV露光����開発も、スパコンと同じように、�盜颪陵⊇����Uがかえって中国研�|陣による�O主開発を�膿覆垢襪海箸砲覆蠅修Δ任△襦�

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1. 露光����の輸出���Uの詳細：経�愱の半導�����]����など23���`の輸出���Uに関する省令改��条文は、極めてわかりにくく、����メーカーは戸惑っている。例えば、露光����に関しては「光源の�S長が193nm以�屬派修靴晋�源の�S長に0.25を乗じた数値を開口数の値で除して�uた数値が45以下の光学式露光����」を���U����にすると書かれている。著�vが国��の露光����すべてについて���Qしたところ、ニコンの�]浸ArF露光����だけが該当することが分かった（参考�@料1）。

参考�@料
1. �K����、「経�愱が半導�����]����など23���`の輸出を2023�Q7月より���U、その中身を読み解く」、マイナビニュースTECH+ (2023/04/03)
2. �K����、「��易�C�oの最中にスパコン開発��争で���}�gらす�歟�、次は半導��?」、セミコンポータル (2018/06/28)