VLSI Symposiumの採�I�b文から見えてくる日本半導��の進むべき�O
2012 Symposium on VLSI Technology および Circuitsが6月12〜15日、�盜颯魯錺��Ε曠離襯襪燃���される。先日、この通称「VLSI Symposium」に関する記�v会見が開かれた。学術発表会への記�v会見が最�Zは珍しくなくなってきた。 [→��きを読む]
ブログ
スマホなどモバイル機�_が�Eり成す半導��業�chot spots模様
世�c的に�Xく��発なスマートフォン、タブレットはじめモバイル機�_に関連する半導����要が�{いつかず、�攵矬を先行して�Dり込んで確保していく��ぎ合いの�X況が見られているようである。中軸半導��を供給する半導��メーカーが���P長を��すとともに、ファブレスとファウンドリーの関係が�峙�の�Dり合い�X況を反映して構�]のシフトを呈していると言われている。昨�Qを���vってまたまた史�嶌嚢發���(g┛u)新するかどうかの本�Qの世�c半導��販売高は、このモバイル機�_のhot spots模様の広がり、濃さにかかっている。 [→��きを読む]
スティーブ・ジョブズ��がアドバイスを求めた日本人
ヒッピーのような�eをした�k人の外国人が東�BのJR�xヶ谷駅�iにあるシャープ東�B�Ъ辧文重豁B�xヶ谷ビル）へ入って行った。背広�eを見慣れている�p����は�k瞬驚いたが、笑顔を作って要�Pを聞くと「ドクターササキに会いたい」という。ドクターササキとは、当時シャープの副社長で東�B�Ъ卍垢虜粥穀v���F士（�R1）であることはすぐにわかった。 [→��きを読む]
Obama�j(lu┛)統�襪離縫紂璽茵璽���made-in-America半導����察ズームアップ
インテルの��次元トランジスタ、TSMCの28-nmファウンドリーcapacityはじめ最先端の半導���\術およびビジネス�官�の動きに�R�`するなか、�盜颪����]jobsの�v帰を図ろうというmade-in-America��動の�k環で、Obama�j(lu┛)統�襪�同国ニューヨーク�Δ虜農菽屡焼���関連地域、「テックバレー」の��察を行っている。今や���噞に行き渡ってその��模や広がりに�j(lu┛)きく影�xする最先端半導��の動向および�\術の確立�差腓任△蝓��盜馮焼���業�cの�T気込みを感じるとともに彼��(sh┫)の�Bに分け入っていかなければとの思いである。 [→��きを読む]
�旟研が最先端トランジスタ�\術を開発する�T味について考える
つくばの�噞�\術総合研�|所で開かれているINC8に出席した。初日はTIA（つくばイノベーションアリーナ）の紹介や、�旟研の研�|開発�X況などを聞いた。東��を除く日本の半導��企業が45nmプロセス以�Tの開発を�Vめている�X況の下で、�旟研による化合�馮焼���オンシリコンやトンネリングFET、3次元メモリなどの発表を見ていて考えてしまった。 [→��きを読む]
�Pび基調が見える3月の世�c半導��販売高、�k��(sh┫)、�`まぐるしい動き
��SIAから発表された3月の世�c半導��販売高は、�i�Q同月比では7.9%��と及ばないものの�i月比では1.5%�\と小幅ながらも���x場地域がプラスとなっている。半導���Q社の業績発表も、マイナスサイクルの�fは�]ったとする見��(sh┫)がいくつかまとまって出ており、今後への期待感が表われている。�k��(sh┫)、エルピーダ�мqの��(sh┫)向性が見えてきているとともに、Nokiaが長�Q維�eした携帯電�B��位の座をSamsungに譲っており、��来の日欧の�j(lu┛)�}には��に�`まぐるしい動きとなっている現時点である。 [→��きを読む]
シェールガス登場で新エネルギートーンダウン〜グリーン��策の新局�Cを読め
���Bは今さらというべきか、��すぎるというべきか、�陵枦澱咫�風��発電などの再�擴���新エネルギーの�Aい�Dり価格を��め、��要�膿覆魎���するなどと言っている。 [→��きを読む]
最先端半導��プロセス開発&��業化、��々発�Vの最�i線
��次元トランジスタ、fin-FET、tri-gate�\術といろいろ称されるキーワードをもつ新型トランジスタに成るインテルの22-nm���]プロセス�\術プロセッサ、Ivy Bridgeが発表されている。�i�vはスマートフォン、タブレットの�x場��要にTSMCはじめ28-nmノード�攵�が�{いつかない����を�Dり�屬欧燭�、このような最先端プロセスの��業化についてインテルとTSMCの間のジャブ応酬が垣間見える様相である。最先端の先鞭はつけている我が国であるが、肝心のビジネス収�\期でのプレゼンス、あり��(sh┫)がはたまた課��である。 [→��きを読む]
プロセスドライバ半導������が変わってきた
GlobalPress Connections社主��のe-Summit 2012に出席するため�殼��L岸に来た。ここで世�c中の記�vやメーカーの人たちとディスカッションしていると、真実が見えてくることが�Hいが、今�vもやはり�kつの�j(lu┛)きな流れ（トレンド）を�瑤襪海箸�できた。今�vはTSMCが28nmラインを�Vめている、という欧�櫂瓮妊�アの真偽についてディスカッションした。 [→��きを読む]
450mmウェーハ実��化への挑戦
世�cで先頭を走りつつ��LSI���]��業に挑戦する企業は、2015�Q頃にはTSVによって3D積層構�]なども採��すると筆�vは考える。設��ノードが10nm��に到るにはEUVが実��化されなければ、�Oは険しいがEUVはどうなるか？寄�斃椴未鰒�らす�\術�}段からは、SOIも考慮されるだろう。これらの路線の�j(lu┛)きな問��は高コストに陥ることだ。このためコストダウンできる要因も開発プログラムに加えなければならない。 [→��きを読む]
<<�iのページ 108 | 109 | 110 | 111 | 112 | 113 | 114 | 115 | 116 | 117 次のページ »
