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模を{求するという20Qiの成功xに今も酔っている国内IDM半導メーカー

NECエレクトロニクスがQ発表を行い、同時に社長交の人も発表した。6月25日けで新社長には、儻純史D締役執行役^常が任する。今vの人では、D締役の人数も来の8@から4@にらしている。これは来Q度の益を何とかトントンにeっていくためのさまざまな内雕瀞のkつであるといえよう。

NECエレは2009Q度に900億のコストカットを予定しており、売峺込みは2008Q度の4800億から4600億を[定する。この売り屬茄少に瓦靴討Cを出さないために900億のw定Jをカットする。いわばリストラで、Cを出さないという妓だ。売屬鮖\やし成長するためのシナリオはまだWけていない。

しかも7月をめどにルネサスと合することになる。NECエレとしては単なるリストラによりC解消という後ろ向きの敢だけに終始する。ルネサスも同じかもしれない。共にCの出せる咾げ饉劼砲靴討ら合すると言っていたことがこの後ろ向きの敢だったlだ。

儻次期社長は、設をY化して低コストでさまざまなアプリケーションに官できるようにすると発言していたが、これとてコストカット敢にすぎない。いったいNECエレはどこへ行くのか、この先成長するためのシナリオはいつになったら出来てくるのか。

もうkつ気になったことがある。「半導噞はある度の模を確保しなければ成り立たない。ルネサスとの合は1兆をす売り屬欧魍諒櫃掘△修1割をW益として出す」と述べていた。しかし、模を{求しなければ半導ビジネスは成り立たないという幻[をいまだにQいていることに直言って落胆した。20〜25QiのDRAMの成功xを今もしっかりと幻[としてQいているのだ。

成長しているファブレスのBroadcomやQualcomm。に後vはIDMであるNECエレをsいてしまった。メモリー以外の半導ビジネスではファブレスが成長をeできる時代に変わってしまっている。売屬小さいからファブレスは成長率が高い、という言いlはもはや通しない。売屬僚jきなファブレスがこれからは半導の世cを配するようになる。


売屬20%を研|開発投@に使うQualcomm
売屬20%を研|開発投@に使うQualcomm


ファブライトで模を{求するという言い気呂そらくTI(テキサスインスツルメンツ)やSTマイクロエレクトロニクスをT識した発言だろうが、そのTIもSTもファブライトであろうとメガファブであろうとファブであることに今は相当Zしんでいる。ノキアにjきく依Tし圓ていたTIは、ノキアのR文のk陲STマイクロに奪われたというZい経xをeつ。DSPビジネスのj模な数量をノキアに依Tしていたために、模を{求することがメモリービジネスではいかにe険なことなのか、TIは高いb業料を払った。ノキアのpRを\やしたSTでさえも、消Jvが使うべき携帯電Bの数量が5〜10%るという見通しをノキアが述べただけで、2009Q1四半期は4億ドルのCを屬靴拭つまりSTマイクロも模を{求したT果、不況と共にCに転落した。NECエレはそれでも模を{求することが半導ビジネスの槎Oだと思っているのだろうか。

STやTIがファブライトからファブレスへ々圓垢襪里呂發呂篁間の問といえるところまで来ているだろう。微細化投@のく不要なアナログやミクストシグナル半導ではファブを残すとしても、微細化が要な|である高集積のSoCやjきなチップのDSPなどのk陲任TIもSTも完なファブレス化することは間違いない。

もはや貭湘合の咾澆くなくなっているのである。駘設やDFM(design for manufacturing)あるいはDFY(design for yield)はプロセスと深い関係をeつが、それをつなぐx販のソフトウエアが誰にでも入}可Δ砲覆蝓▲侫.Ε鵐疋蠅任駘設をDり入れられるようになったからだ。DFMやDFYのソフトやシミュレータを~使し、プロセスパラメータを把曚任る現在、プロセスには差別化要素は少なくなってきたともいえる。だからTSMCに頼めば誰でも40nmのSoCを望めば}に入る。何のためにIDMはT在するのか。投@効率(ROI)のKいIDMがなぜこれからも擇残れるのか。なぜOiで40nmプロセスを開発しなければならないのか。これらの疑問にきちんとした答えを今のIDMは出せない。本当にj丈夫か?NECエレ!ルネサス! 世cの半導ビジネスの流れに乗ろうという、そのT識が日本の半導企業にはL如しているとしか思えない。

ごT見・ご感[
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