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TSVの商化を早める平C配}法によりFPGAの集積度を屬欧襯競ぅ螢鵐ス

(sh━)ザイリンクス社は、シリコンインターポーザ\術を使い、FPGAチップを複数つなぐ新しい高集積化\術を開発したと発表した。3D ICの\術であるTSV(through silicon via)を使いながら3次元にチップを積み_ねるのではなく、2次元に配する。eに積むとTSVホールの配のU(ku┛)限やインターポーザにおける配線設のOy(t┓ng)度がなわれるため、現段階ではk陲離ぅ瓮献磧爾鮟いて化されていない。

TSVとシリコンインターポーザを使い3D ICの商化へk歩を踏み出す

図1 TSVとシリコンインターポーザを使い3D ICの商化へk歩を踏み出す


ザイリンクスがこの\術を発表した場所は湾である。湾にはASEという後工ファウンドリ世cナンバーワンの企業があり、i工ナンバーワンのTSMCもある。TSV\術はi工、後工のどちら笋任發任るプロセスである。それぞれの専業メーカーが湾にあることは、ユーザーから見ると実にビジネスのやりやすい地域となり、湾が3D ICの拠点にふさわしい拠点となりうる。

この\術は、FPGAの集積度をムーアの法Г閥Δ砲気蕕屬欧茲Δ箸垢襪箸に使う\術である。FPGAは最終に使うことは稀で、たいていの場合SoCなどの高集積ICを設する場合の設のハードウエア検証に使うことがHい。このためチップの専~C積はそれほど問にならない。今vの\術のように複数のチップを横に並べる(sh┫)法は3次元化の最]{(di┐o)`にある。

ただし、横に並べるメリットは何か。FPGAを1個ずつ並べても同じように見えるが、単チップを1個ずつ接するユーザーから見ると、配線工が(r┫n)常に複雑になる。高集積のFPGAをu接させたチップ同士をつなぐ場合には1万もの接点をデータが走ることになるという。インターポーザからTSVでボール端子を出せばプリント基メーカーの煩わしさは来と変わらない。ユーザーにとってはリスク軽(f┫)となる。2つのFPGAチップをプリント基屬吠造戮訃豺腓犯罎戮襪函_ねたシリコンでは接のバンド幅は1W当たり100倍となり、レイテンシは1/50に縮まると同時に、高]のシリアルあるいはパラレルI/Oは使わなくて済む。

ザイリンクスは、この\術を28nmのVirtex-7シリーズのLX2000Tデバイスに適し、すでに入}可Δ淵愁侫肇Ε┘▲汽檗璽肇帖璽ISE Design Suit 13.1を使ってソフト開発できるとする。この28nmのLX2000Tは、現在最先端の28nmプロセスを使った最j(lu┛)集積度のFPGAと比べてロジック容量は3.5倍以屬砲覆蝓▲轡螢▲襯肇薀鵐掘璽个鮟言僂靴森盻言僂28nmFPGAと比べてもロジック容量は2.8倍にも達するという。

このチップは高集積向けマイクロバンプ\術を使い、TSMCの28nmプロセスで攵する。複数のFPGAをプリント基に搭載する場合と比べて、消J電、システムコスト、基v路の複雑さ、のどれもて優れているとしている。TSMCのシニアバイスプレジデントであるShang-Yi Chiang(hu━)によると、TSVとシリコンインターポーザを使ってシリコンをその屬謀觝椶垢(sh┫)法は、ザイリンクスにとってリスクが軽(f┫)され、量屬砲△襪箸いΑ

(2010/10/28)
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