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日立作所、加]電圧1.2MVの高圧透垠薪纏匕家をo開

日立作所は、分解Δ43pm(ピコメートル)と極めて高い透垠薪纏匕家(TEM)を開発、このほどメディアにo開した(図1)。このTEMの加]電圧は1.2MV(120万ボルト)と常に高圧で、そのため分解Δ屬り、来より厚い試料も荵,任るようになった。

図1 日立がo開した1.2MVの透堙纏匕家

図1 日立がo開した1.2MVの透堙纏匕家

図1 日立がo開した1.2MVの透堙纏匕家 高さは7.4mある() その内(下)


この顕微は、故外彰フェローがナノ覦茲療甜Ь譴鮗Rできるホログラフィー電子顕微を1978Qに初めて実化した\術をベースにしている。ホログラフー顕微は、電c放o銃から放出される電子ビームが試料を通圓靴気函通圓靴覆った気箸苓J渉Hを逆変換して、気鮃臉する。文C通り原子レベルの試料内陲療甜Sを荵,垢である。

原子のeを捉えることのできる、この透堙展欧鮖箸┐、磁性や新型電池、電導、トポロジカル絶縁など新材料の構]を荵 Σ鮴呂任、新しい材料を擇濬个江}段になりうる。日立は2010Q3月からの国家プロジェクト「最先端研|開発мqプログラム」の\成をpけて、この電子顕微を開発した。電子線の加]電圧を1.2MVと屬欧襪海箸播纏劼S長を]くし、分解Δ魑鵑欧蕕譴襪茲Δ砲覆辰拭

そのために新たに開発した\術は主に四つある。kつは球C収差を抑えた、二つ`は電子ビームのエネルギーバラつきを抑えた、つ`は電子銃をW定にした、四つ`はノイズを極抑える環境を作った、である。最初の球C収差の低には、ビームを絞るレンズに加え、収差を抑えるための凹レンズを{加・工夫した。電顕のレンズは、もちろん電磁cで構成するが、そのW定性が何よりも_要だった。球C収差係数がiは2.4mmだったが、後は0.01mm未満に少したという。

二つ`のエネルギーのバラつきには、ノイズ敢とa度変化に瓦靴禿典B^の変化が少ないB^_や高圧ケーブル、さらに高電圧レギュレータなどをフルした。そのT果、W定度は0.3ppmという低い電圧変化を1.2MVシステムで達成した。このT果エネルギーの揃った高]電子ビームを放oすることが可Δ砲覆辰拭

つ`の電子銃のW定動作には、先端の径が0.1µm以下という細い電子銃の放出電流が劣化するという問があり、1日に1〜2vメンテナンス電圧調Dをしなければならなかった。これを解するため、真空度を来よりも100倍屬3×10の-10乗パスカルまで圧を下げた。


図2 透堙纏匕家の専建屋 周囲はかな森の中

図2 透堙纏匕家の専建屋 周囲はかな森の中


振動に瓦靴討、外靈廾を排除するように努めた。電子顕微の分解Δ屬欧譴屬欧襪曚、ちょっとした振動でも画気震えてしまうため、ごくわずかな振動との戦いだった。電顕をしっかりw定するため、専建屋(図2)を建設、音の振動さえ嫌い、電顕の隹阿鯔媛纂爾砲靴。また、荵,垢觧は真空ポンプを科に引いたらポンプをVめ、その振動も排除した。また、電顕の操作は別室で行い、操作室にも吸音材を張り巡らせた。外霄Ь譴瓦靴討賄展欧亮りをパーマロイでカバーするだけで科だとしている。


図3 電顕室の屋屐ヽ宛は透堙展欧離▲織泙霾と変わりないが、左のタンクが高電圧発昊_、のタンクは電子銃U御電源 ^真には^っていないがそのに電顕がある

図3 電顕室の屋屐ヽ宛は透堙展欧離▲織泙霾と変わりないが、左のタンクが高電圧発昊_、のタンクは電子銃U御電源 ^真には^っていないがそのに電顕がある


この電顕に使う1.2MVという高電圧は専の圧_と専の電子銃U御電源も電顕のそばに設されており(図3)、それらを高圧に耐えるケーブルでつないでいる。ただし、これだけ高電圧となると空気中にケーブルが露出すると放電するため、SF6ガスで気密封Vしている。圧は、40kVずつ44段のポンピングv路で屬欧討いという。

(2015/04/14)
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