TSMCが新�腑汽ぅ┘鵐好僉璽�内で新たに土地�D�uに向け交渉していると8月26日の日本経済新聞が報じた��新�腓砲△詼楴劼�ら約2km�`れた土地で、現在建設中の施設「R1」の�uりだという。R1では2nmプロセスの研�|開発を行う��新たな土地に4棟を建設する予定で、投�@�Yは2兆��になる見込みだという。

ファウンドリビジネスでは、TSMCが圧倒しており、��に微細化プロセスではSamsungも�}�Xけているが、5nm以�Tでは�LかせないEUV�\術ではTSMCの独�T場のようだ。TSMCはEUVリソグラフィの唯�kのメーカーであるASMLとぴったりと共同チームを組みEUV�\術を磨いてきた。この点、Samsungは出��れた。ただ、Samsungも懸命についていこうとしており、5nmから1nm刻みの微細化��画を発表している。

EUV�\術では、小松��作所の関連会社であるギガフォトンが巻き返しを図り、出��330Wを�`指した開発を進めている。8月31日の日経�噞新聞によると、ASMLが2022�Qにも開発する次世代EUV����では330Wの出��が求められるという。EUV光源は出��が高いほど露光時間を�]縮してスループットを�屬欧蕕譴襪燭�、開発当初から高出��化を�`指してきた。高出��の光源を�W定して動作させることが実��化のカギとなる。22�Qごろからの次世代機では1時間当たりのスループットは185��/時となる。

ASMLは、光源メーカーであったCymer社を2013�Qに�A収して以来、高出��化を掲げてきた。この�T果、当初ギガフォトンの�x場シェアが2016�Qに60%あったが2019�Qには45%に落ち込んでいた。次世代機の330Wへの挑戦でギガフォトンは巻き返しを図る。

EUVリソグラフィを�k�}に引き�pけるASMLの2020�Q��2四半期の���Qレポートによると、��1四半期の売り�屬欧�EUV����は2��だったのが��2四半期には7��となっている。ASML����の売�幢Yは�i�Q同期比で30%�\の33億2600万ユーロとなっており、��3四半期の見込みも21〜27%�\の36〜38億ユーロと好調だ。ASMLは、現在の最新鋭機NXE:3400Cでさまざまな改良を加えており、光源�霾�をモジュラー�擬阿離戰奪札襦平振�容�_）にして交換時間を�]縮し8時間以内とした。加えて、光源に��いるスズの充填をインライン�擬阿砲靴討笋呂蠍魎校�間の�]縮を図った。この�T果、1時間当たりに処理できるスループットは��来機NXE:3400Bの125��/時からNXE:3400Cでは170��/時に�\えた。

EUVリソ向けのマスク検�h����のトップメーカー、レーザーテックの�@金�v収期間が長引いている、と28日の日経が報じた。�@金�v収などの�@金効率を��すCCC（cash conversion cycle）が��来の2倍と長期化しており、�\収ペース以�屬��p�Rが�\えて、現金化�iの�^卸�@��が膨らんだ。2020�Q6月期の連�T売�幢Yは�i期比48%�\の425億��、純�W益は82%�\の108億��だが、あまりの�p�R���\のため財��が痛んでいる。ただし、�O己�@本比率は47.9%あるため、今のところは��来に向けた、うれしい悲鳴ともいえる「成長痛」のようだ。

AGC（旧旭硝子）はEUVマスクブランクスの�攵��ξ�を2倍に�\�咾垢�、と25日の日経�噞が報じた。子会社のAGCエレクトロニクスに数��億��を投じ、建屋を拡張、新�攵摚�△鯑各�し、2022�Q�n働を�`指す。25�Qに売�幢Y400億��以��、シェア50%を見込む。AGCのマスクブランクスのシェアは3割��度だという。この分野はHOYAが�咾ぁ�

��湾が中国への投�@の���Uを実��的に�咾瓩�。半導��設��などのハイテク企業が中国�j陸で投�@する場合には���i審�hを�I����ける、と28日の日経が報じた。��来は��後の届け出だけですませていたが、今秋から�\術�‥召砲�らむ��ての投�@案�Pを����とするという。�盜颪�中国の華為（ファーウェイ）に�盜颪寮濕�・���]�����\術が渡ることを遮��した措��を8月17日に発表したが（参考�@料1）、これに��湾の蔡英文��権が歩調を合わせたといえそうだ。

参考�@料
1. �盜顱�中国華為を完��封鎖へ、APUの中国輸出も��実�峩慵V (2020/08/24)