セミコンジャパンをにらんだ瀾隴劉彌のニュ〖ス陵肌ぐ
染瞥攣瀾隴プロセスで呵絡(luò)の鷗績(jī)柴セミコンジャパンが澎疊ビッグサイトで12奉3泣から倡號(hào)されるせいか、瀾隴劉彌簇息のニュ〖スが黎降、陵肌いだ。染瞥攣輝眷は攻拇に夸敗しており、肋灑抨獲が寵券で劉彌緩度も懼羹いている。
セミコンジャパンの肩號(hào)莢であるSEMIの泣塑恕客SEMIジャパンの面錄餞洛山とのインタビュ〖淡禍を11奉27泣の泣穿供度糠使が非很しており、それによると、2015鉗もスマ〖トフォンが染瞥攣輝眷を福苞し魯け、劉彌輝眷は2014鉗の漣鉗孺7.8%籠から15鉗はどう15.6%籠の422它ドルに橙絡(luò)すると斧ている。
ニコンは、腳ね圭わせ籃刨とスル〖プットを猖簾したArFレ〖ザ〖リソグラフィ劉彌NSR-S322Fを12奉に任卿倡幌すると券山した。このニュ〖スを泣沸緩度糠使と泣穿供度糠使がそれぞれ何り懼げている。腳ね圭わせ籃刨は、票じ劉彌柒では2nm笆布、票辦怠鹼粗では5nm笆布となっている。スル〖プットは、300mmウェ〖ハで96ショット溪各するとして髓箕230綏笆懼。豺嚨刨は65nm笆布と驕丸怠と恃わらない。
レ〖ザ〖各富を緘齒けるギガフォトン∈井揪瀾侯疥の100%灰柴家∷は、Ne(ネオン)ガスを呵絡(luò)50%負(fù)らせる禱窖eTGM∈eco-Total Gas Management system∷を袋粗嘎年で痰浸捏丁すると券山した。ArFエキシマレ〖ザ〖リソグラフィ劉彌では、Ar(アルゴン)とF(フッ燎)の寒圭ガスをNeで歹堅(jiān)して蝗う條だが、Ne緩叫柜での蠟攫稍?shī)Wや閡巢により、丁惦が擴(kuò)嘎されている。この禱窖は、レ〖ザ〖の蒼漂覺(jué)斗を斧ながら、ガスの廟掐翁と怯丹翁を極瓢弄に呵努步するもの。
澎水エンジニアリングはウェ〖ハを甫酸するCMP劉彌のパッド山燙を浮漢する劉彌INS800を2015鉗1奉に券卿すると券山した。この劉彌は、木仿800mmのCMPパッド山燙を1尸笆柒で浮漢できるという。山燙の療さや孤の升、考さ、ピッチなどを極瓢盧年し、デ〖タをパソコンで山績(jī)する。擦呈は900它邊。
稿供鎳では、ディスコがウェ〖ハ微燙甫酸脫の裁供ツ〖ル≈ドライポリッシングホイ〖ル∽と、磊們するダイシングブレ〖ド≈ZH14シリ〖ズ∽をサンプル叫操した。漣莢の瀾墑は、メモリなどで微燙ゲッタリングする箕に蝗い、この瀾墑は鉤擂動(dòng)刨を驕丸瀾墑よりも20%光めたというもの。ウェ〖ハ慌懼げ更25µmの裁供でも鉤擂動(dòng)刨を澄瘦しているという。稿莢のブレ〖ドは、ブレ〖ドの撬祿や鉀乖を娃擴(kuò)したもの。バンプのついたフリップチップ脫のダイシングでは、墓い肯叫しが澀妥となり、鉀乖や磊れ妒りが券欄しやすかった。この瀾墑はブレ〖ドの撬祿嘎腸廬刨を20%懼げたため、光廬に磊っても奧年した裁供が材墻になったという。
450mmウェ〖ハに灤するプロセス倡券は附哼、ト〖ンダウンしているが、RSテクノロジ〖ズは、450mmウェ〖ハの浩欄禍度に捐り叫すと27泣の泣沸緩度糠使が帕えている。450mmウェ〖ハは帽擦が40它邊とまだ光いため、倡券檬超で蝗脫したウェ〖ハの山燙を猴り艱り、糠墑票屯に浩欄して蝗う。
瀾隴劉彌度腸呵絡(luò)の沸蹦琵圭となる澎疊エレクトロンとApplied Materialsとの沸蹦琵圭の袋泣をこれまでの12奉30泣から2015鉗3奉24泣に恃構(gòu)すると泣沸緩度は鼠じている。澎疊エレクトロンはイスラエルとシンガポ〖ル、ドイツでは迫貍敦賄恕簇息の鏡千を評(píng)ているが、勢(shì)柜や躥柜、駱涎、面柜では、砍漢が費(fèi)魯している。このため、袋泣を變袋した。
染瞥攣メ〖カ〖としては、澎記がGaNの球咖LEDや、SiCも崔めたパワ〖染瞥攣の倡券を佬李俯に礁腆する。このため16鉗刨までに300帛邊を抨じる。またソニ〖はCMOSイメ〖ジセンサ〖の欄緩墻蝸を、附哼の6它綏/奉から7它5000它綏/奉に苞き懼げるため、1000帛邊の納裁抨獲が澀妥、と揭べた票家エレクトロニクス嬸嚏トップの塢騰靡乖會(huì)とのインタビュ〖淡禍を泣沸緩度が非很した。
