Semiconductor Portal

» セミコンポータルによる分析 » 噞分析

東半導靆腓離僖錙屡焼の300mmプロセスラインにMQがある理y

東の半導靆腓任△訶贄デバイス&ストレージ社がパワー半導工場である加賀東エレクトロニクスに300mmウェーハプロセスラインを設ける理yがらかになった。加賀東は2023Q4月に300mm官のパワー半導新]棟の工式を行い、2024Q度内でのn働を予定しているが、地味なパワー半導は供給埔蠅砲覆蕕覆い世蹐Δ。

東デバイス&ストレージのDり組み(2)  〜商群〜 / 東デバイス&ストレージ社

図1 東のパワー半導業はZ載向けにを入れていく 出Z: 東デバイス&ストレージ社


もともと電会社や鉄Oなどo共インフラビジネスに咾づ贄は、これまでもパワー半導をuTとしてきた。それも噞やインフラのj電機_がuT中のuTで、それ以外にもZ載向けソリューションと、データセンター/サーバー向けのソリューションをeっている(図1)。ポートフォリオでも、社会インフラや噞向けソリューションがl富だった。

ここにきてEV化へのjきなうねりと、カーエレクトロニクスへのjきな要が、シリコンのパワー半導を後押ししている。例えばEV(電気O動Z)といえば、インバータのパワー半導やSiC MOSFETなどにすぐR`が集まるが、EVでなくとも実はパワー半導はクルマのあちらこちらに採されている。パワーウィンドウやワイパーなどのモータ~動や、LEDランプのドライバなどパワー半導のは実にHい。これに加えてEVシステムになれば、最低限4つの応にパワー半導が使われる。トラクションインバータ、OBC(On Board Charger)、BMS(Battery Management System)、そしてDC-DCコンバータだ。

もちろん、これから何Qにも渡るトレンドのACES(Autonomy、Connectivity、Electricity、Sharing)あるいはCASEに△─▲僖錙屡焼の応は\えていく。そのk例がO動運転やADAS(先進運転システム)向けのステアリング・バイ・ワイヤー擬阿澄これはハンドル(ステアリング)の茲蕃Z軸とがつながっていない新しいシステムで、ハンドルをvすとその角度を検瑤靴i茲慮きをモータで調Dする\術である。ここにもパワー半導が使われる。Z軸などの機械は半導よりも実は信頼性がKいからだ。v転やi後運動する場合の機械のY滑はLかせない。OEMにD材すると機械で出来ることをできるだけシリコンにき換えるという動きが1980Q代からいてきており、これからももっと\えていく見通しだ(図2)。


LV-MOS Z載向け 要拡j / 東デバイス&ストレージ社

図2 クルマ1当たりのパワー半導(MOSFET)は\えけている 出Z: 東デバイス&ストレージ社


Z載向け半導は開発から実使まで5〜7Qかかるため、]期的な景気に左されない。2023Qの世c半導がマイナス成長になることは確実なのに、Z載半導だけがプラス成長が見込まれている。

パワー半導とk口にいってもそれだけでは動かない。パワー半導を~動するためのドライバIC、さらにドライバICに指令を出すマイコン、そしてマイコンに判を求めるためのセンサとアナログIC、そしての半導を動かすための電源IC、すなわちPMICが要となる。このシグナルチェーンの中で最低限要なのはドライバICとアナログICやマイコンだ。東は、パワー半導に加え、ドライバIC、マイコンなどのシグナルチェーンを構成する半導にもを入れる。

ただし、に応じてパワー半導を使い分ける。@的で40~100VだとシリコンのパワーMOSFET、それ以屬ら700V度までならシリコンIGBTやGaN、800V以屬覆SiC MOSFETというわけだ。


Nch40V, 80V, 100VUMOSFETの開発動向 / 東デバイス&ストレージ社

図3 オンB^削を進めてきた 出Z: 東デバイス&ストレージ社


数量が最もHいは、いたるところで使われる小型モータ~動のSi MOSFETで、そのための300mmウェーハラインとなる。歴史の長いMOSFETは、オンB^と耐圧とはトレードオフの関係にあるため、微細加工\術によってオンB^を下げながら、空層を基笋硫爾気惺げていくという構]を{求してきた。トレンチ\術はそのkつだ。100VUのMOSFETで最小のオンB^25mΩ/mm2を実現している(図3)。また、スイッチング失をらすため、寄斃椴未鰒らすセル構]も採してきた。セル構]とは、パワートランジスタは小さなトランジスタをj量に並`接した等価v路で表現されるが、その小さな基本MOSFETのことを指す。

絶縁耐圧がシリコンの10倍というSiC材料を使ったMOSFETにもを入れ始めた。これまでIGBTでも官できる650V耐圧のSiC MOSFETをe接して3.3kVUの鉄OZ両向けに実化、さらに噞の電源向けにも攵している。さらにその先の800VUのクルマには耐圧1200VのSiC MOSFETが本格的に使われるようになる(図4)。東は、Si MOSFETでも使われているスーパージャンクション擬阿旅暑]をSiCに導入し、3.3kV以屬線電向けのSiC MOSFET開発にもDり組んでいるという。線電では、風やソーラーなどの再擴Ε┘優襯ーにSiCを使えば、使うパワートランジスタの量をらせるためSiCのメリットが擇てくる。


SiC半導:高度な\術基盤をし業覦茲魍判j / 東デバイス&ストレージ社

図4 SiCは鉄Oから参入しクルマ、さらに再エネへとt開 出Z: 東デバイス&ストレージ社


j電・高耐圧パワートランジスタだけではなく、東は使いM}の便WなパワーICもTする。モータU御にマイコンとドライバICや保護v路、電源v路などを1チップに集積したSmartMCD(Motor Control Device)も開発している。パワートランジスタのモジュール(6個組)に直Tし、デジタル信、鯀るだけでパワー半導をU御できる。CPUを集積しているため、ソフトウエアでプログラム可Δ如△修里燭瓩粒発ボードと開発環境も提供する(図5)。


SmartMCD(TM)の要3:ソフトウエア開発環境 / 東デバイス&ストレージ社

図5 パワーICのSmartMCDも提供 出Z: 東デバイス&ストレージ社


さらに、実際のクルマに搭載した時にパワーMOSFETの動作a度峺XやEMI(Electro-Magnetic Interference)のようなスイッチングノイズの様子をモデルベースシミュレーションによって莟Rできるようにするため、MOSFETのSPICEモデルをAnsys社のモデルベース設ツールのTwinBuilderに搭載、提供できるようにした。これによってMOSFETをクルマに搭載するiにシミュレーションで、例えば交差点の角を曲がるような動作の時にパワートランジスタのa度峺やノイズX況を検証できるようになった。

東が今v、記v説会を開し、パワー半導の要を紹介したことは、今後めに転じていくという狼煙でもある。

(2023/05/30)
ごT見・ご感[
麼嫋岌幃学庁医 自瞳匯潴貘遊lj| 娼瞳消消消消消涙鷹繁曇犯| 忽恢娼瞳徭壓徭| 繁劑壓濔瞳匯曝屈曝眉曝| 1000何田田田18窒継利嫋| 晩云xxxxxxx69xx| 冉巖窒継忝栽弼壓瀛啼| 徭田総窃忝栽天胆弌傍| 忽恢返字壓潸羨テ涙鷹鉱心| 嶄忖鳥篇撞壓灑西痴斛| 天胆撹繁返字壓瀛啼| 忽恢眉雫谷頭篇撞| 99消消娼瞳胆溺互咳島邦| 來天胆戟諾母絃XXXX來| 消消消消繁曇匯曝娼瞳弼天胆| 天巖娼瞳匯触2触眉触4触岱鷹| 壅侮泣赱穂捲赱湊寄| 弼篇撞忝栽涙鷹匯曝屈曝眉曝| 忽恢天胆壓濆杰諌伺屈曝| 2021消消娼瞳忽恢99忽恢娼瞳| 壓濆杰肝枸枴啼| 消消忽恢娼瞳99娼瞳忽恢| 天胆3p寄頭壓濆杰翰衲井| 冉巖天巖及匯匈| 襖謹勸潤丗崙捲嗾雌| 忽恢眉雫壓澣舐| 菜繁際際議勇附序秘| 忽恢牽旋壓濆杰簡啼| どきどき弌型叫| 撹繁冉巖天胆晩昆壓濆杰| 消消消音触忽恢娼瞳匯曝屈曝 | 天胆冉巖娼瞳suv| 膨拶唹篇喟消継鉱心壓| 互賠弼仔谷頭匯雫谷頭| 忽恢醍狭videoxxxx糞田| 戟諾謹谷議寄薩谷盤盤| 晩昆天胆匯曝屈曝眉曝篇撞| 冉巖胆溺繁仔利撹繁溺| 弼継溺繁18谷頭a雫谷頭篇撞| 忽恢寄僥伏狼双| 91篇撞忝栽利|