図1　SMIC Evening 2017の開��(h┐o)�iの�kコマ

SMICは都内で「SMIC Evening 2017（SMICの�Dべ）」を開��(h┐o)し(図1)、その戦�Sと位��づけを��確にした。

中国では、半導������の莫�j(lu┛)な輸入����(c┬)を見��(c┬)ごせないことから、半導���噞への投�@を?q┗)�発化させてきた�?014�Qの輸出入統��では1500億ドル(16.5兆��)という巨�Yの��易��(l┬)�C(j┤)を半導��で���屬靴拭�このため国家を�屬欧董�内��化を��(d┛ng)化し��易��(l┬)�C(j┤)の��(f┫)少に努めてきた。5�Q間で4兆��とも言われる投�@は、毎�Q16〜17兆��の��(l┬)�C(j┤)�Yから見ると��して�j(lu┛)きくない数�C(j┤)である。

当初、中国は外国の半導��企業を�A収しようとしてきたが、��(sh━)国���Bの��(d┛ng)い反�瓦鵬颪い曚���念した。わずかに、小��模の半導��企業や、中������メーカーを�A収しただけにとどまる。そこで、中国���B�Uファンドは国内のDRAMとNANDフラッシュの工場に投�@することに切り��えた。まだメモリ工場は�n働していない�X(ju└)況だ。そのような中、SMICは2000�Q�i後の中国における最初の半導��ブームに投�@し、�擇�残ってきた唯�kの�j(lu┛)�}半導��企業である。

SMICは、TSMCやSamsungのような10nm以下の��最先端プロセスには、Wassenaar　Arrangement(旧ココムに代わる���_(d│)輸出禁�Vの申し合わせ)による�U(ku┛)約から投�@できないが、それでも14nm FinFETプロセスまで開発���屬砲△襦�28nmプロセスは�k�靂名�に入っている。最先端プロセスを使わないファウンドリとしてTower Jazzなどもあるが、90nm〜65nmまでで、28nm����を量��する�ξ�はない。しかもSMICはSiプロセスにこだわる。GaNやSiGeは�}�Xけないが、MEMS（Micro Electro Mechanical System）やSOI（Silicon on Insulator）プロセスは提供する。

�官�できるプロセスは、ロジックが28nmプロセスで�k�靂名�しているが、RF向けの28nmプロセスも開発中だ。NANDフラッシュも24nmを開発中で38nmを量��している。組み込みフラッシュは55nmプロセスでルネサスに次ぐ先端を行く。フラッシュを�}�XけるのはDRAMと違い、ロジックプロセスとの互換性かあるからだと、同社Euro/Asia Sales DirectorのMike Guo��(hu━)(図2)。は語る。また、NANDフラッシュ単��も�攵�するが、顧客の�攵��ξ�を�屬欧襪燭瓩涙k時的な�\���мqが�`的で、NANDフラッシュの専��ラインを作るつもりはないとする。

図2　SMIC Euro/Asia Sales DirectorのMike Guo��(hu━)

半導������は今や微細化プロセスが差別化するテクノロジーではなく、ユーザーエクスペリエンスが差別化の��(d┛ng)い要因になっている。このため、40/45nmプロセスでも�科�、��争��はある。ただし、RFのように、遮��周�S数（fTやfMAX）を高めるためにある��度微細化が��要な応��には28nmプロセスを使う。SMICがこれからも独�Oの地位をキープできるのは、10nm以下の微細化投�@でTSMCやSamsung、GlobalFoundriesなどと��争しなくても済むようなサービスポートフォリオを揃えているからだ。

スマートフォン�x場でもAPU（Application Processor Unit）以外はそれほど微細な先端プロセスを使わないため、スマホビジネスでも�M機があるとする。もちろんスマホ以外のビジネスで成長を見込めるところはAIだとして、SMICはAIの応��分野の�kつであるパターン認識を�W(w┌ng)��する顔認証やサーベイランスの監��カメラ��、�駑�モニター、ロボットなどの����も今後の成長分野として期待している。

SMICはプロセス以外でも、SMICのPDKに�pったデザインを�}�Xけるデザインハウスが�\えたことも��徴だとGuo��(hu━)は語り、また基本的にPDK（プロセス開発キット）しか認めないTSMCとは違い、顧客からのカスタマイズにも�官�するという。SMICはTSMC、TowerJazzとも違う独�Oの地位確立に向けて、この戦�Sを進めていく。