「やれるものならやってみろ、と言いたい。基本素材を開発するには数�蚊Qの歳月を��要とする。この間、この素材開発は��く�W益を�擇泙覆い錣韻世�ら、�f国企業の経営�vがこれに耐えられるはずがない。とにかく、すぐ儲からないとダメ、というのが彼らのやり�気�。であるがゆえに、ひたすら日本����のコピーをして�j量�攵�に�eち込み、�x場を��配していく。しかし、材料、素材にはこの�擬阿���く通��しない」。

今�vの日本���Bの輸出���Uで�k番問��となったのが、フォトレジスト、フッ化水素、フッ化ポリイミドの3つである。とりわけフォトレジストは半導��の���j材料のひとつであり、日本企業が世�cシェアの90%以�屬魏，気┐討い襪里任△襪�ら、�f国���Bのあわてぶりはひどいものであった。つまりは、フォトレジストがなければ、半導��メモリでトップをいく�f国勢、すなわちサムスンやSKはものを作れない。まさに�U裁に�Zいものであった。（しかし、後からこのレジストはメモリ向けではなかったことが判��）(��集室�R1)。

さてさて、この輸出���Uがこれからも��くのであれば、この20�Q間にわたって構築された日中�fのバリューチェーンは少しく影�xを�pけることになる。日本から�f国にわたるコア・����材料は�f国が��要とする分の53%も���~している。�f国はこうした日本勢の����材料を使っての中間材を作り、中国に輸出する。この�f国からの中間材は中国が��要とする分の79%を��めるのだ。そして中国は最終完成��を作り��世�cに出荷し、圧倒的なシェアを築いていく。�歟肬�易戦争の��化もあって、中国も最�Zは思うように身動きが�Dれず、この�C�jなバリューチェーンは�jきくヒビが入ってくるだろう。

ちなみに日本から輸出する半導��材料で輸出割合の�Hいものとしては、以下の���`が挙げられる。半導�����]��エポキシ�`脂は87.4%、半導��ウェーハ���]��の石英るつぼは99.2%、半導�����]��の�^真プレートとフィルム76.6%、そして基��材料のシリコンウェーハ＝52.8%、�i記のフォトレジストが93.2%となっている。

迷走モードを��ける�f国���Bはこの間、中国��やロシア��の材料で��き換えられると発表したが、半導��業�cの人たちはこれをせせら笑っていた。なぜなら、日本��ほどの高純度で作ることは�Mしく、もし��き換えられたとしても工場の歩�里蠅��k気に低下するわけだから��く�T味がないことになる。

「しかも�f国���Bはフォトレジストのほとんどがカスタム��だということがわかっていない。メーカーごと���|ごとにカスタマイズして合わせ込む。このことについては日本企業の��に出るものはいない。しかも、��歩譲って中国��やロシア��を使えたとしても、レジストを����で試作しまともに流せるようになるには3�Qも5�Qもかかるのだ。これからも�f国半導��は日本企業の材料、素材に依�Tするしかない」（�i記の材料�j�}���陝�。

フォトレジスト最�j�}JSRの設立は1957�Q、二番�}の東�B応化工業の創業は1940�Q、さらに信越化学の設立は1926�Q、住友化学は同1925�Qであり、みな長い歴史を�eつ�鬩F企業なのだ。彼らが、どれだけの�Z労と長い�Q月をかけて最高レベルの����を作り�屬欧燭�については�f国���Bの認識は甘いという以外にないだろう。

��集室�R1）�U裁ではEUVフォトレジストを����としており、EUVレジストが��要とする7nm以下の微細化�\術はメモリではなくファウンドリロジックに��要。サムスンはファウンドリに��を入れ始めた矢先にこの通商問��が��きたために慌てたのである。